[发明专利]一种绿色遮阳型镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜玻璃制备方法及由该方法制备的镀膜玻璃，特别涉及一种低辐射镀膜玻璃的制备方法及其制备的低辐射镀膜玻璃。

背景技术

镀膜玻璃(Reflectiveglass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。

镀膜玻璃的生产方法很多，如真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等。磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系，可在白色玻璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好，是目前生产和使用最多的技术。真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空溅射法取代。化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解，均匀地沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃的技术。该方法的设备投入少、易调控，产品成本低、化学稳定性好、可热加工，是目前最有发展前途的生产方法之一。溶胶-凝胶法生产镀膜玻璃工艺简单，稳定性好，不足之处是产品光透射比太高，装饰性较差。

磁控溅射法是目前世界范围内应用最多、工艺最稳定、性能最好(辐射率E值≤0.12)、品种最丰富、能源需求相对较低的镀膜玻璃生产工艺。由于这种生产工艺不需要与浮法玻璃生产线捆绑在一起使用，即可以将浮法玻璃生产与玻璃镀膜工艺分开进行，有效的降低了玻璃深加工企业重复建设浮法玻璃生产线、减少了二氧化碳排放量及相关的能源消耗。

磁控溅射镀膜的原理是在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，氩气电离成正离子和电子，在靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，靶上被溅射出来的原子以较高的动能脱离靶面飞向玻璃基片并淀积成膜。

目前应用最多的热反射玻璃和低辐射玻璃基本上采用真空磁控溅射法和化学气相沉积法生产。国际上比较著名的真空磁控溅射法设备生产厂家有BOC公司(美国)和莱宝公司(德国)；化学气相沉积法设备厂家有皮尔金顿公司(英国)等。目前，我国已经出现数百家镀膜玻璃生产厂家，在行业中影响较大的真空磁控溅射法生产厂家有中国南玻集团公司和上海阳光镀膜玻璃公司等，化学气相沉积法生产厂家有山东蓝星玻璃公司和长江浮法玻璃公司等。

目前对绿色镀膜玻璃的生产研究不多，本发明使用法国绿色本体着色玻璃作为镀膜的基片，有效的利用了本体着色玻璃对太阳光中紫外线的吸收过滤功能，本发明选用特定的镍铬、硅铝、银为溅射靶材制作的绿色遮阳型镀膜玻璃，色彩鲜艳且容易调节、质量稳定、制作效率高，但是，该方法制作的是低辐射镀膜玻璃(LOW-E玻璃)，仅对波长在4.5-25微米范围内的远红外线有较高的反射比、太阳能吸收率和紫外线过滤，适宜长期使用。

发明内容

本发明的首要目的是针对上述现有镀膜玻璃制备技术存在的问题提供一种绿色遮阳型镀膜玻璃的制备方法及制备的绿色遮阳型镀膜玻璃。本发明方法制备的绿色遮阳型镀膜玻璃在阳光下呈绿色，可达到良好的装饰效果；可见光透过率低、室外可见光反射率高、太阳能的透过率低、太阳能反射率高；并且本发明的绿色低辐射控制玻璃传热系数低、遮阳系数低、热工性能良好，能有效阻止热能进入室内，降低制冷能耗；需制成中空玻璃，控光节能效果更佳。

为实现本发明的目的，本发明一方面提供一种绿色遮阳型镀膜玻璃，包括依次紧密叠合的玻璃基片和金属膜层：

玻璃基片；

第一膜层，位于玻璃基片的表面，所述第一膜层为硅铝合金膜；

第二膜层，位于所述第一膜层的表面，所述第二膜层为镍铬合金膜；

第三膜层，位于所述第二膜层的表面，所述第三膜层为银膜；

第四膜层，位于所述第三膜层的表面，所述第四膜层为镍铬合金膜。

第四膜层，位于所述第四膜层的表面，所述第五膜层为硅铝合金膜。