[发明专利]一种监控装置

说明书

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种用于监控挡板机构寿命的监控装置。

背景技术

目前，真空镀膜技术被广泛应用于工业生产的各领域，尤其在应用于TFT-LCD(英文名称为Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，中文名称为薄膜晶体管液晶显示器)、OLED(英文名称为Organic Light Emitting Diode，中文名称为有机电致发光显示器)等领域时，真空设备会产生额外的薄膜沉积。为了防止额外产生的薄膜污染真空腔体，在真空腔体中加上挡板机构，额外产生的薄膜会沉积在挡板上。再对挡板进行定期清洗，可以有效保护真空腔体。这种镀膜方式被广泛应用于各种真空设备上，如：PVD(英文名称为Physical Vapor Deposition，中文名称为物理气相沉积)、CVD(英文名称为Chemical VaporDeposition，中文名称为化学气相沉积)、Dry Etch(英文名称为DryEtching，中文名称为干法刻蚀)、Sputter(英文名称为Sputter Coating，中文名称为溅射镀膜)等设备。

挡板机构作为真空设备的重要组成部分，其使用寿命是根据附着的薄膜厚度决定的。只有准确地掌握了附着薄膜的厚度才能有效地监控挡板的寿命。但目前，仅仅凭借经验难以确切判断出挡板何时到使用寿命末期，不能实现对挡板寿命进行精确的管理。若将提早更换挡板并送去专业厂商进行清洗，则会增加不必要的运营成本；若超过挡板使用寿命再更换，则会影响产品的良率。

因此，针对以上不足，需要一种能够准确监控挡板机构寿命，实现设备精确化管理，且降低运营成本的监控装置。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是提供了一种监控装置，使得能够准确监控挡板机构的寿命，实现设备精确化管理，且降低了运营成本。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种监控装置，包括用于真空镀膜的腔室，还包括电容测试装置和位于腔室内的挡板机构，所述挡板机构为由多个挡板面所围成的密闭结构，其中至少一个所述挡板面包括固定挡板和活动挡板，所述活动挡板绕所述固定挡板转动，且活动挡板转动后与相邻挡板面平行，所述相邻挡板面和活动挡板分别与电容测试装置连接，所述电容测试装置用于测试所述相邻挡板面与活动挡板之间的电容。

其中，所述挡板机构为立方体形状，所述固定挡板和活动挡板均设置于立方体的顶部或者底部，所述活动挡板绕所述固定挡板转动90°角后与所述相邻挡板面平行。

其中，所述活动挡板的边缘设有第一连接部和第二连接部，所述第一连接部与固定挡板转动连接，所述第二连接部与固定挡板对应设置。

其中，所述第一连接部的上方设有密封条，所述密封条位于所述固定挡板与活动挡板之间的缝隙处。

其中，所述第一连接部与第二连接部的材质均为绝缘材料。

其中，所述活动挡板的形状为矩形，所述活动挡板的数量为一个或者多个。

其中，所述相邻挡板面与活动挡板分别通过导线与电容测试装置连接。

其中，所述电容测试装置为用于测试电容的万用表、电容表或者电桥测试仪。

其中，所述挡板面的内侧沉积有薄膜。

(三)有益效果

本发明的上述技术方案具有以下有益效果：本发明监控装置的挡板机构为由多个挡板面所围成的密闭结构，其中至少一个挡板面包括固定挡板和活动挡板，活动挡板绕固定挡板转动，且活动挡板转动后与相邻挡板面平行，相邻挡板面与活动挡板分别与电容测试装置连接，电容测试装置用于测试相邻挡板面与活动挡板之间的电容。该监控装置可以准确监控挡板寿命，实现设备的精确化管理；该监控装置在不增加制造成本的基础上，其结构的复杂性也未提升，即可无需开腔就可以实现对挡板机构的寿命进行精确管理，有效降低产线设备的运营成本。

附图说明

图1为本发明实施例一监控装置的结构示意图；

图2为本发明实施例一监控装置的工作状态示意图；

图3为本发明实施例二监控装置的立体图。

其中，1：电容测试装置；2；挡板机构；3：第一连接部；4：第二连接部；5：密封条；21：固定挡板；22：活动挡板。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不能用来限制本发明的范围。