[发明专利]一种电容触摸屏的制作工艺在审
| 申请号： | 201410196517.2 | 申请日： | 2014-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN104090694A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | 汪峻铭 | 申请（专利权）人： | 浙江金指科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人： | 胡根良 |
| 地址： | 313100 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电容 触摸屏 制作 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种电容触摸屏的制作工艺，其特征在于：包括下述步骤，
(A)取带有彩色滤光片的液晶显示玻璃层，在彩色滤光片上沉积金属导电膜，并蚀刻过桥、引线、引点；
(B)在金属导电膜上覆盖OC绝缘层；
(C)在OC绝缘层上沉积ITO导电膜，ITO导电膜的厚度为130纳米-140纳米，蚀刻ITO图形，并与金属导电膜的过桥电连接；
(D)在ITO导电膜上固定柔性引线；
(E)使用透明光学胶将玻璃盖板贴合至ITO导电膜上，制成电容触摸屏。
2.根据权利要求1所述的一种电容触摸屏的制作工艺，其特征在于：所述金属导电膜的厚度为150纳米-200纳米。
3.根据权利要求1所述的一种电容触摸屏的制作工艺，其特征在于：所述OC绝缘层的厚度为15纳米-20纳米。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种电容触摸屏的制作工艺，其特征在于：沉积所述ITO导电膜的温度为215℃-225℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江金指科技有限公司，未经浙江金指科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410196517.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
