[发明专利]用于真空镀膜的玻璃基板架及其镀膜系统和镀膜系统的传输方法

权利要求书

1.具有用于真空镀膜的玻璃基板架的镀膜系统，其特征在于，包括玻璃基板架（4）、玻璃基板架传输装置（7）以及与所述玻璃基板架平行设置的镀膜装置（6），所述玻璃基板架（4）包括至少一个凹形的用来装载玻璃基板（1）的底面封闭或底面中空的边框容置区(5)；所述边框容置区(5)包括用以支撑玻璃基板（1）的底面和形成所述边框容置区(5)的边框的外周边，所述边框容置区(5) 的外周边与所述玻璃基板架(4) 表面平齐或所述边框容置区(5) 的外周边从所述玻璃基板架（4）表面向外延伸，所述底面与所述玻璃基板架(4)表面垂直距离为0.5mm~5mm，所述边框容置区(5)支撑玻璃基板的位置设置缓冲部件，所述玻璃基板架(4)由金属或耐高温板加工制成，所述边框容置区（5）的底边（52）与所述玻璃基板架（4）的水平方向的底边水平线面之间的夹角为玻璃基板架容置区倾角β，且所述玻璃基板架容置区倾斜角β为1~30°，玻璃基板（1）的大小小于边框容置区（5）的大小，所述镀膜装置（6）与所述玻璃基板架（4）的平行间距为10mm~1000mm，所述镀膜装置（6）为旋转靶材或平面靶材的磁控溅射源，边框容置区（5）的左侧边（53）和顶边（51）的夹角、左侧边（53）与底边（52）的夹角、右侧边（54）和顶边（51）的夹角、右侧边（54）和底边（52）的夹角处均设置缓冲部件。

2.根据权利要求1所述的镀膜系统，其特征在于，所述玻璃基板架(4)所在的平面与所述玻璃基板架传输装置（7）的水平面方向构成的玻璃基板架倾角θ为70°~89°。

3.使用如权利要求1或2所述的镀膜系统的传输方法，其特征在于，所述玻璃基板架(4)倾斜站立在所述玻璃基板架传输装置（7）上。