[发明专利]反渗透膜元件化学清洗方法有效
申请号: | 201410202724.4 | 申请日: | 2014-05-14 |
公开(公告)号: | CN103949164A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 宋雁飞;韩俊 | 申请(专利权)人: | 师宗煤焦化工有限公司 |
主分类号: | B01D65/06 | 分类号: | B01D65/06 |
代理公司: | 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 | 代理人: | 徐玲菊 |
地址: | 655700 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反渗透 元件 化学 清洗 方法 | ||
1.一种反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为5~7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间不少于6小时;
步骤(2),判断反渗透膜元件受何种污染物污染,然后选择相应的化学清洗药剂,具体如下:
当所述的污染物为无机盐时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液;
当所述的污染物为金属氧化物时,化学清洗药剂为质量分数为1.0%亚硫酸氢钠水溶液和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液;
当所述的污染物为无机胶体时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液;
当所述的污染物为生物膜时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为有机物时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液;
当所述的污染物为硅时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为细菌时,化学清洗药剂为活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液;
步骤(3),根据步骤(2)选择的化学清洗药剂,分以下三种情况进行清洗:
第一种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有酸性清洗药剂,则用酸性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
第二种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有碱性清洗药剂,则用碱性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
第三种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中同时含有酸性清洗药剂和碱性清洗药剂,则用酸性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;之后再用碱性清洗药剂对经过本步骤酸洗的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;最后再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
清洗过程中的压力为0.18~0.22MPa、流量为48~52m3/h。
2.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于用碱性清洗药剂进行清洗时,碱性清洗药剂的温度为30℃。
3.根据权利要求2所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于用氢氧化钠水溶液进行清洗时,氢氧化钠水溶液的温度为30℃。
4.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于清洗后,位于反渗透膜元件淡水侧的化学清洗药剂直接排放,而位于反渗透膜元件浓水侧的化学清洗药剂则流经浓水管道继续对浓水管道进行清洗。
5.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于清洗过程中压力为0.2MPa、流量为50m3/h。
6.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于所述的金属氧化物为铁系金属氧化物。
7.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于所述的无机胶体为泥沙微粒。
8.根据权利要求1所述的反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于步骤(3)所述的清洗过程中,每15分钟检测一次pH值,控制用酸性清洗药剂清洗时的pH为2~3,用碱性清洗药剂清洗时的pH为11.5;如果不合格,则需要用盐酸或氢氧化钠溶液调整至合格。
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