[发明专利]反渗透膜元件化学清洗方法有效
申请号: | 201410202724.4 | 申请日: | 2014-05-14 |
公开(公告)号: | CN103949164A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 宋雁飞;韩俊 | 申请(专利权)人: | 师宗煤焦化工有限公司 |
主分类号: | B01D65/06 | 分类号: | B01D65/06 |
代理公司: | 昆明正原专利商标代理有限公司 53100 | 代理人: | 徐玲菊 |
地址: | 655700 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反渗透 元件 化学 清洗 方法 | ||
技术领域
本发明属于水处理技术领域,具体涉及反渗透膜元件化学清洗方法。
背景技术
反渗透膜分离作为一种全新的水处理技术,已经渗透到了各个工业领域。在实际应用过程中,反渗透膜生产企业提供的膜元件具有广泛的普遍性,缺乏针对性。各生产企业提供的清洗方法多数时候仅是简单的酸和碱反复清洗,如HCl、NaOH。但由于各企业的水源、水质差异较大,对膜的认识不足,缺乏膜工程应用的经验。特别是针对低温(夏季水温低于12℃)、低浊度(新鲜水浊度低于1~2ntu)、高有机物、高微生物水的处理,一直是水处理行业公认的难题。膜元件污染后会因清洗配方或清洗方法不当,而使膜元件的使用效率和寿命大为降低,通常都会导致系统实际处理效能低下、运行费用高、膜系统运行不稳定等现象,膜工艺往往被简化为不停地换膜,最后导致对膜技术丧失信心,并增加运行费用。
有的企业将反渗透膜的化学清洗工作委托专业清洗公司进行清洗,因膜的化学清洗配方及清洗方法具有普遍性而缺乏针对性,因此存在清洗方法和清洗药剂用量,以及清洗药剂选择不合理等问题,造成膜清洗不彻底,清洗效果不佳,清洗次数增加,且清洗后的产水电导率明显上升2~3μs/cm,导致反渗透设备产水电导率升高,回收率降低,影响反渗透膜的使用寿命。
因此亟需研制出一种适用于低温、低浊度、高有机物、高微生物水质的反渗透膜的清洗药剂及清洗方法,以提高清洗效果,延长清洗间隔周期,降低运行费用。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术的不足,提供反渗透膜元件化学清洗方法,该方法的清洗效果明显优于传统清洗,能明显提高产水量和回收率,降低反渗透设备运行压差及产水电导率,同时减少清洗时化学药剂对膜元件的损伤。
本发明采用的技术方案如下:
反渗透膜元件化学清洗方法,其特征在于包括如下步骤:
步骤(1),用活性物含量为5~7%异噻唑啉酮溶液浸泡反渗透膜元件的一段和二段,浸泡时间不少于6小时;
步骤(2),判断反渗透膜元件受何种污染物污染,然后选择相应的化学清洗药剂,具体如下:
当所述的污染物为无机盐时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液;
当所述的污染物为金属氧化物时,化学清洗药剂为质量分数为1.0%亚硫酸氢钠水溶液和质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液;
当所述的污染物为无机胶体时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液;
当所述的污染物为生物膜时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为有机物时,化学清洗药剂为质量分数为0.2%盐酸水溶液、质量分数为0.1%十二烷基苯磺酸钠水溶液、质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液、质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液和质量分数为0.1%三聚磷酸钠水溶液;
当所述的污染物为硅时,化学清洗药剂为质量分数为0.1%氢氧化钠水溶液和质量分数为1.0%乙二胺四乙酸四钠盐水溶液;
当所述的污染物为细菌时,化学清洗药剂为活性物含量为6%的异噻唑啉酮溶液和质量分数为0.2%盐酸水溶液;
因为频繁清洗会缩短膜的使用寿命,或因为药剂选择不当会恶化膜的污染状况,所以在选择化学清洗药品时,必须严格针对污染原因对症下药,在化学清洗前先确定污染物的类型,保证清洗效果和不对膜元件造成损伤;在清洗过程中每15分钟监测一次清洗液pH值、颜色,当清洗液不合格时及时调整或更换;
步骤(3),根据步骤(2)选择的化学清洗药剂,分以下三种情况进行清洗:
第一种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有酸性清洗药剂,则用酸性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
第二种,如果步骤(2)选择的化学清洗药剂中只含有碱性清洗药剂,则用碱性清洗药剂将经步骤(1)浸泡得到的反渗透膜元件的一段先进行清洗,然后再清洗二段,其中,一段清洗时间为50~80min,二段清洗时间为50~80min;接着再用除盐水清洗一段和二段膜元件,至排水水质为中性;
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