[发明专利]一种真空设备

权利要求书

1.一种真空设备，包括真空腔、位于所述真空腔内部且相对设置的第一电极和第二电极、以及用于定位基板的定位结构；其特征在于，

所述基板位于所述第一电极和所述第二电极之间，且贴近所述第一电极或所述第二电极放置；

所述真空设备还包括静电消除装置；

其中，所述静电消除装置通过将带电粒子引至所述基板贴近所述第一电极一侧的表面或者所述基板贴近所述第二电极一侧的表面以消除所述基板与所述第一电极和/或所述基板与所述第二电极之间的静电吸附作用。

2.根据权利要求1所述的真空设备，其特征在于，所述第一电极和/或所述第二电极上设置有多个气孔。

3.根据权利要求2所述的真空设备，其特征在于，所述真空设备还包括与所述真空腔相连的输气装置；

所述输气装置通过所述气孔向所述基板恒压输送冷却气体；其中，所述冷却气体为惰性气体。

4.根据权利要求3所述的真空设备，其特征在于，所述真空设备还包括用于监测所述冷却气体的压强的监测装置。

5.根据权利要求2所述的真空设备，其特征在于，所述静电消除装置包括等离子体放电系统和等离子体传输系统；

其中，所述静电消除装置通过所述气孔向所述基板贴近所述第一电极一侧的表面或者所述基板贴近所述第二电极一侧的表面输送等离子体。

6.根据权利要求5所述的真空设备，其特征在于，所述等离子体放电系统包括用于产生等离子体的阳极和阴极；

所述等离子体传输系统包括真空泵和传输管道。

7.根据权利要求6所述的真空设备，其特征在于，所述阳极为所述第一电极，所述阴极为所述第二电极；

所述等离子体传输系统与所述真空腔之间具有第一连接口和第二连接口；

其中，所述第一连接口用于将所述真空腔内部产生的等离子体导出，所述第二连接口用于通过所述气孔向所述基板输送等离子体。

8.根据权利要求1所述的真空设备，其特征在于，所述第一电极位于所述真空腔的顶部，所述第二电极位于所述真空腔的底部；

其中，所述基板位于所述第二电极的上方，且贴近所述第二电极放置。

9.根据权利要求8所述的真空设备，其特征在于，所述定位结构为支撑针；

所述第二电极上还设置有与所述支撑针匹配的针孔。

10.根据权利要求1所述的真空设备，其特征在于，所述真空设备还包括设置在所述第一电极和/或所述第二电极周围的阻隔层；

其中，所述阻隔层的厚度大于所述第一电极和/或所述第二电极的厚度。