[发明专利]一种管状钼靶材的制备方法

权利要求书

1.一种管状钼靶材的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

步骤一、将钼粉压制成钼管坯；

步骤二、对步骤一中所述钼管坯进行烧结处理，具体过程为：

步骤201、一段烧结：将钼管坯竖直放置于烧结炉中，先升温至350℃～450℃后保温3h～4h，再升温至750℃～850℃后保温3h～4h，然后升温至1100℃～1250℃后保温3h～4h，之后升温至1400℃～1500℃后保温4h～6h，随炉冷却；

步骤202、二段烧结：将步骤201中经一段烧结后的钼管坯倒置于烧结炉中，然后升温至1800℃～2000℃后保温5h～6h，随炉冷却；

步骤三、将步骤202中二段烧结后的钼管坯在温度为1200℃～1300℃的条件下保温5min～30min，然后送入挤压机中，在挤压比为4.2～5的条件下进行挤压，经车削加工后得到管状钼靶材。

2.根据权利要求1所述的一种管状钼靶材的制备方法，其特征在于，步骤一中所述钼粉的松装密度为1.4g/cm³～2.0g/cm³。

3.根据权利要求1所述的一种管状钼靶材的制备方法，其特征在于，步骤202中经二段烧结后的钼管坯的密度为9.7g/cm³～9.8g/cm³。

4.根据权利要求1所述的一种管状钼靶材的制备方法，其特征在于，步骤二中所述烧结处理在氢气气氛下进行。

5.根据权利要求1所述的一种管状钼靶材的制备方法，其特征在于，步骤三中所述管状钼靶材的外径为130mm～200mm，所述管状钼靶材的壁厚为14mm～15mm。

6.根据权利要求1所述的一种管状钼靶材的制备方法，其特征在于，步骤三中所述管状钼靶材的密度为10.1g/cm³～10.2g/cm³。