[发明专利]降低光掩模板条纹的方法及装置有效

申请号：	201410211411.5	申请日：	2012-12-03
公开（公告）号：	CN103995431B	公开（公告）日：	2017-06-13
发明（设计）人：	邓振玉;张沛;李跃松	申请（专利权）人：	深圳清溢光电股份有限公司
主分类号：	G03F1/72	分类号：	G03F1/72;G03F1/84
代理公司：	深圳中一专利商标事务所44237	代理人：	张全文
地址：	518057 广东省深圳市高***	国省代码：	广东;44
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摘要：
搜索关键词：	降低模板条纹方法装置
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【权利要求书】：

1.降低光掩模板条纹的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：

设计制作光掩模检测板；所述光掩模检测板以光掩模制作设备或平板显示器曝光设备的最高设计能力设计最小线缝；

根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差；

将图形按照划分间隔进行分割，分割成小单元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小单元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此顶点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补；

补偿后的X值X’为：

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补偿后的Y值Y’为：

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其中，顶点的坐标为(X，Y)，四个矩阵点的坐标为左下(XLB，YLB)，右下(XRB，YRB)，右上(XRT，YRT)，左上(XLT，YLT)，四个矩阵点的偏差分别为(xlb，ylb)，(xrb，yrb)，(xrt，yrt)，(xlt，ylt)。

2.降低光掩模板条纹的装置，其特征在于，所述装置包括：

光强或涂胶测量单元，用于根据划分间隔通过光掩模检测板对光掩模板的涂胶或不同区域的光强度进行矩阵测量，测量每个矩阵点，得到每个矩阵点的偏差；

图形分割反补单元，用于将图形按照划分间隔进行分割，分割成小单元，按照分割后图形每个顶点所在的坐标测量小单元矩阵中的四个点围成的区域，根据小单元矩阵中的四个点求出此顶点的偏差，在进行光刻前对图形进行反补；

补偿后的X值X’为：

补偿后的Y值Y’为：

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