[发明专利]贝曲西班盐及其制备方法和用途

权利要求书

1.式II所示的贝曲西班盐，

II

其中，当X选自L-苹果酸、D-苹果酸、DL-苹果酸、DL-酒石酸、丁二磺酸或乙二磺酸时，m取值0.5或1；

或者，当X选自羟乙磺酸或氢溴酸时，m取值1。

2.根据权利要求1所述的贝曲西班盐，其中，

m为0.5，X为L-苹果酸，即为半L-苹果酸贝曲西班；或者，

m为1，X为L-苹果酸，即为L-苹果酸贝曲西班；或者，

m为0.5，X为D-苹果酸，即为半D-苹果酸贝曲西班；或者，

m为1，X为D-苹果酸，即为D苹果酸贝曲西班；或者，

m为0.5，X为DL-苹果酸，即为半DL-苹果酸贝曲西班；或者，

m为1，X为DL-苹果酸，即为DL-苹果酸贝曲西班；或者，

m为1，X为DL-酒石酸，即为DL-酒石酸贝曲西班；或者，

m为0.5，X为丁二磺酸，即为半丁二磺酸贝曲西班；或者，

m为0.5，X为乙二磺酸，即为半乙二磺酸贝曲西班；或者，

m为1，X为羟乙磺酸，即羟乙磺酸贝曲西班；或者，

m为1，X为氢溴酸，即氢溴酸贝曲西班。

3.根据权利要求2所述的贝曲西班盐，其中，

所述半L-苹果酸贝曲西班具体为半L-苹果酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：8.6°±0.2°、12.3°±0.2°、13.3°±0.2°、14.2°±0.2°、15.7°±0.2°、19.2°±0.2°、19.6°±0.2°、20.2°±0.2°、21.3°±0.2°、21.7°±0.2°、22.8°±0.2°、24.1°±0.2°、26.9°±0.2°和29.3°±0.2°；

所述L-苹果酸贝曲西班具体为L-苹果酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：8.8°±0.2°、10.7°±0.2°、13.8°±0.2°、14.4°±0.2°、15.3°±0.2°、17.9°±0.2°、20.1°±0.2°、20.7°±0.2°、21.0°±0.2°、21.4°±0.2°、21.8°±0.2°、24.3°±0.2°和25.6°±0.2°；

所述半D-苹果酸贝曲西班具体为半D-苹果酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：8.6°±0.2°、12.3°±0.2°、13.3°±0.2°、14.2°±0.2°、15.7°±0.2°、19.2°±0.2°、19.6°±0.2°、20.2°±0.2°、21.4°±0.2°、21.7°±0.2°、22.8°±0.2°、24.1°±0.2°、26.8°±0.2°和29.4°±0.2°；

所述D-苹果酸贝曲西班具体为D苹果酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：8.8°±0.2°、10.7°±0.2°、13.8°±0.2°、14.4°±0.2°、15.2°±0.2°、17.9°±0.2°、20.0°±0.2°、20.7°±0.2°、21.4°±0.2°、21.8°±0.2°、24.4°±0.2°、25.6°±0.2°；

所述半DL-苹果酸贝曲西班具体为半DL-苹果酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：8.6°±0.2°、12.3°±0.2°、13.2°±0.2°、14.2°±0.2°、15.7°±0.2°、19.2°±0.2°、19.6°±0.2°、20.2°±0.2°、21.2°±0.2°、21.8°±0.2°、22.8°±0.2°、24.1°±0.2°、26.8°±0.2°和29.4°±0.2°；

所述DL-苹果酸贝曲西班具体为单DL-苹果酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：8.6°±0.2°、10.7°±0.2°、13.8°±0.2°、14.6°±0.2°、15.5°±0.2°、18.0°±0.2°、20.2°±0.2°、20.9°±0.2°、21.6°±0.2°、22.0±0.2°、24.6°±0.2°、25.6°±0.2°；

所述DL-酒石酸贝曲西班具体为单DL-酒石酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：4.5°±0.2°、13.8°±0.2°、15.4°±0.2°、16.0°±0.2°、18.4°±0.2°、20.1°±0.2°、23.0°±0.2°和26.2°±0.2°；

所述半丁二磺酸贝曲西班具体为半丁二磺酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：6.6°±0.2°、9.3°±0.2°、11.1°±0.2°、11.7°±0.2°、12.5°±0.2°、13.4°±0.2°、15.8°±0.2°、17.2°±0.2°、18.0°±0.2°、18.5°±0.2°、19.6°±0.2°、20.5°±0.2°、22.1°±0.2°、25.0°±0.2°和25.6°±0.2°；

所述半乙二磺酸贝曲西班具体为半乙二磺酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：4.9°±0.2°、5.6°±0.2°、14.7°±0.2°、15.2°±0.2°、16.8°±0.2°、17.4°±0.2°、17.9°±0.2°、19.0°±0.2°、19.1°±0.2°、21.0°±0.2°、24.0±0.2°和24.5°±0.2°；

所述羟乙磺酸贝曲西班具体为单羟乙磺酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：12.5°±0.2°、12.9°±0.2°、15.9°±0.2°、16.5°±0.2°、17.1°±0.2°、17.4°±0.2°、18.8°±0.2°、22.7°±0.2°、28.5°±0.2°和28.7°±0.2°；

所述氢溴酸贝曲西班具体为单氢溴酸贝曲西班晶型A，使用Cu-Kα辐射，其X-射线粉末衍射图谱在以下2θ位置具有特征衍射峰：5.8°±0.2°、6.5°±0.2°、8.8°±0.2°、11.7°±0.2°、15.1°±0.2°、17.8°±0.2°、21.3°±0.2°、21.7°±0.2°、22.3°±0.2°、25.3°±0.2°和26.7°±0.2°。