[发明专利]湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法无效
申请号: | 201410225223.8 | 申请日: | 2014-05-26 |
公开(公告)号: | CN104018158A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 丁向前;刘晓伟;刘耀;郭总杰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | C23F1/08 | 分类号: | C23F1/08 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 湿法 刻蚀 设备 方法 | ||
1.一种湿法刻蚀设备,包括:刻蚀液存储槽、与所述刻蚀液存储槽连通的多个喷淋管,其特征在于,所述刻蚀液存储槽内设有第一电极和第二电极,其中:所述第一电极和所述第二电极的极性相反,所述第一电极和第二电极用于湿法刻蚀设备在对金属刻蚀物刻蚀过程中形成施加于所述刻蚀液的直流电场。
2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述第一电极设置于所述刻蚀液存储槽的第一侧壁上,所述第二电极设置于所述刻蚀液存储槽的第二侧壁,其中:所述第一侧壁和所述第二侧壁相对设置。
3.根据权利要求2所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述第一电极和所述第二电极均为条形结构。
4.根据权利要求1所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述第一电极和所述第二电极设置于所述刻蚀液存储槽的一个侧壁上。
5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述第一电极包括多个板状的子第一电极,所述第二电极包括多个板状的子第二电极,所述多个子第一电极和所述多个子第二电极沿所述刻蚀液存储槽的深度方向间隔排列,且任意相邻两个子第一电极之间设有一子第二电极。
6.根据权利要求4所述的湿法刻蚀设备,其特征在于,所述第一电极包括多个板状的子第一电极,所述第二电极为条状结构,其中:所述多个子第一电极位于所述第二电极上、且沿条状的所述第二电极的长度方向间隔设置。
7.一种湿法刻蚀方法,其特征在于,包括:
在用刻蚀液对金属刻蚀物刻蚀过程中,对刻蚀液施加直流电场。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410225223.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:方便纯净水桶翻倒出水的装置
- 下一篇:端子排扩展头