[发明专利]二维跟踪转台超360°旋转限位机构

权利要求书

1.一种二维跟踪转台超360°旋转限位机构，包括设置在旋转体上的限位凸起以及设置在固定基座上的用于挡住限位凸起从而阻止旋转体作旋转运动的限位组件，其特征在于：所述限位组件包括两个位于限位凸起运动轨迹上并与固定基座铰接安装的旋转挡块；两个旋转挡块分别只能朝一个方向旋转且旋转方向相反，从而限制旋转体的转动。

2.根据权利要求1所述的二维跟踪转台超360°旋转限位机构，其特征在于：所述旋转挡块为直角挡块。

3.根据权利要求2所述的二维跟踪转台超360°旋转限位机构，其特征在于：所述限位组件还包括用于提供直角挡块始终保持直角姿态的保持弹片；所述保持弹片为“Z”字形，所述保持弹片的一端固定安装在固定基座上，另一端与直角挡板的底面接触。

4.根据权利要求3所述的二维跟踪转台超360°旋转限位机构，其特征在于：所述限位组件还包括活动基座以及分别设置在活动基座两端的两个缓冲组件；所述活动基座设置在固定基座上；所述直角挡块铰接安装在活动基座上；所述活动基座在限位凸起撞击直角挡块时可沿着撞击的方向移动；所述缓冲组件包括弹簧与挡板；所述挡板固定安装在固定基座上，所述弹簧的一端安装在活动基座的端面上，另一端安装在挡板上。

5.根据权利要求4所述的二维跟踪转台超360°旋转限位机构，其特征在于：所述缓冲组件还包括安装在挡板上的橡胶垫。