[发明专利]二维跟踪转台超360°旋转限位机构有效
申请号: | 201410247117.X | 申请日: | 2014-06-05 |
公开(公告)号: | CN104061951A | 公开(公告)日: | 2014-09-24 |
发明(设计)人: | 高雄;王振宇;李治国;谢友金;黄静;崔凯 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01D11/16 | 分类号: | G01D11/16 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 杨引雪 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二维 跟踪 转台 360 旋转 限位 机构 | ||
技术领域
本发明属于光学测量技术领域,具体涉及一种二维跟踪转台超360°旋转限位机构。
背景技术
目前,二维跟踪转台的旋转大都采用机械限位,如图1所示,现有机械限位的结构基本都是通过安装在旋转体1上的限位凸起2(撞杆)与安装在固定基座3上的限位组件4(缓冲器)相互碰撞实现,当所需旋转范围超过360°后,就需要通过设置长度不同两级限位凸起配合两个缓冲器才能完成对旋转体实现大范围旋转限位,使用两级限位时,两个缓冲器分别对长度不同的两个限位凸起进行限位,这样就需要固定基座的体积变大,两个缓冲器错位布置,从而造成了整体限位机构结构的复杂性和体积的大幅增加,给装配调试带来很大的困难。
发明内容
为了解决背景技术中的问题,本发明提出了一种体积小、结构简单、易于操作的二维跟踪转台超360°旋转限位机构。
本发明的具体技术方案是:
一种二维跟踪转台超360°旋转限位机构,包括设置在旋转体上的限位凸起以及设置在固定基座上的用于挡住限位凸起从而阻止旋转体作旋转运动的限位组件,其特征在于:所述限位组件包括两个位于限位凸起运动轨迹上并与固定基座铰接安装的旋转挡块,两个旋转挡块分别只能朝一个方向旋转且旋转方向相反,从而限制旋转体的转动。
上述旋转挡块为直角挡块。
上述限位组件还包括用于提供直角挡块始终保持直角姿态的保持弹片;所述保持弹片为“Z”字形,所述保持弹片的一端固定安装在固定基座上,另一端与直角挡板的底面接触。
上述限位组件还包括活动基座以及分别设置在活动基座两端的两个缓冲组件;所述活动基座设置在固定基座上;所述直角挡块铰接安装在活动基座上;所述活动基座在限位凸起撞击直角挡块时可沿着撞击的方向移动;所述缓冲组件包括弹簧与挡板;所述挡板固定安装在固定基座上,所述弹簧的一端安装在活动基座的端面上,另一端安装在挡板上。
上述缓冲组件还包括安装在挡板上的橡胶垫。
本发明的优点在于:
1、本发明采用两个旋转挡块与限位凸起配合,实现二维转台的限位,结构简单可靠、整体结构体积小、加工装配方便快捷,可靠性高,另外仅限制旋转范围,对精密转动轴系没有额外转矩附加。
2、本发明采用两个旋转挡块与限位凸起配合,实现了二维跟踪转台超360°的旋转限位,并且避免了二维跟踪转台的过度旋转带来的线束缠绕等潜在问题。
3、本发明设置缓冲组件,实现了双向弹性缓冲,防止硬冲击带来的机构失效或损坏。
4、本发明的整个机构布置在设备外部,方便维修或零部件更换。
附图说明
图1为现有限位机构的结构示意图;
图2为本发明的立体结构示意图;
图3为限位组件的平面剖视简图;
图4为本发明的工作过程示意图;
1-旋转体、2-限位凸起、3-固定基座、4-限位组件、5-旋转挡块、6-保持弹片、7-活动基座、8-缓冲组件、9-弹簧、10-橡胶垫、11-挡板。
具体实施方式
现有的限位机构在转台旋转超过360°时,需要两级限位机构配合才能实现二维跟踪转台的限位,这样的造成了限位结构的复杂性和体积的大幅增加,给装配调试带来很大的困难。
本发明针对现有二维跟踪转台的限位机构在工作过程中出现的问题,提出了一种体积小、结构简单、易于操作的二维跟踪转台超360°旋转限位机构。
现结合图2和图3对该结构进行详细描述:
该限位机构包括设置在二维跟踪转台旋转体1上的限位凸起2以及设置在固定基座3上的用于挡住限位凸起2从而阻止旋转体作旋转运动的限位组件4,其改进之处是:
该限位组件4包括位于限位凸起2运动轨迹上并与固定基座3铰接安装的旋转挡块5,两个旋转挡块5分别只能朝一个方向旋转且旋转方向相反,从而限制旋转体1的转动。
在实际设计过程中,旋转挡块5设计为直角挡块。
另外,为了防止在运输或其他过程中直角挡块无序转动而带来的零件损换导致限位失效,该限位机构上还设置了用于提供直角挡块始终保持直角姿态的保持弹片6;
具体该保持弹片6的结构是:该保持弹片为“Z”字形,保持弹片的一端固定安装在活动基座7上,另一端与直角挡板的底面接触,通过保持弹片6始终提供直角挡块保持直角姿态。
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