[发明专利]基板运送供给方法及基板运送供给装置有效
申请号: | 201410247169.7 | 申请日: | 2014-06-05 |
公开(公告)号: | CN104427845B9 | 公开(公告)日: | 2017-08-08 |
发明(设计)人: | 高田直毅;中村守;水间敬太 | 申请(专利权)人: | 东和株式会社 |
主分类号: | H05K13/02 | 分类号: | H05K13/02;B65G49/06 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 康泉,宋志强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 运送 供给 方法 装置 | ||
1.一种基板运送供给方法,用于将表面上安装有多个电子器件的基板运送到压缩树脂封装装置的上模面的下方位置,并且使所述基板的所述表面朝下且使所述基板的背面吸附到所述上模面并保持,该基板运送供给方法的特征在于,包括:
基板运送供给装置的准备工序,准备具备卡合部和收容凹部的基板运送供给装置,所述卡合部用于与所述基板的表面周边部位接合且将所述表面周边部位卡合在规定的位置,所述收容凹部用于将全部所述电子器件以与所述卡合部不接触的状态进行收容;
基板放置工序,将所述基板的所述表面周边部位与所述基板运送供给装置的所述卡合部接合并卡合,并且将所述电子器件收容于所述基板运送供给装置的所述收容凹部;
基板运送供给装置的前进工序,将经过所述基板放置工序的所述基板运送供给装置运送到所述上模面的下方位置;
基板定位工序,使经过所述基板运送供给装置的前进工序的所述基板运送供给装置相对于所述压缩树脂封装装置相对地向上移动,以使所述基板的所述背面配合在所述上模面的规定位置;
基板接合工序,使经过所述基板定位工序的所述基板的所述背面与所述上模面接合;
基板姿势矫正工序,在所述基板接合工序时,向所述基板的所述表面供给压缩空气以对所述基板的变形姿势进行矫正;
基板吸附工序,在所述基板姿势矫正工序时和经过所述基板姿势矫正工序后这两者中的任一时期或两个时期中,使所述基板吸附到所述上模面;
基板保持工序,在所述基板吸附工序时和经过所述基板吸附工序后这两者中的任一时期或两个时期中,使所述基板保持于所述上模面;以及
基板运送供给装置的后退工序,在经过所述基板保持工序后,使所述基板运送供给装置相对于所述压缩树脂封装装置相对地向下移动,并且使所述基板运送供给装置向所述压缩树脂封装装置的外部后退,
在所述基板姿势矫正工序中,对由所述基板和所述基板运送供给装置的所述卡合部这两者形成为局部剖切状态的所述收容凹部或者形成为密封状状态的所述收容凹部,从所述收容凹部的底面向所述收容凹部供给所述压缩空气,以进行所述基板的姿势矫正。
2.根据权利要求1所述的基板运送供给方法,其特征在于,
所述基板姿势矫正工序通过从设置在所述基板运送供给装置的所述收容凹部的所述底面上的多个压缩空气供给孔向所述收容凹部供给所述压缩空气,从而进行所述基板的姿势矫正。
3.根据权利要求1所述的基板运送供给方法,其特征在于,
所述基板姿势矫正工序通过利用所述基板和所述基板运送供给装置的所述卡合部这两者构成呈密封状的所述收容凹部,并且从设置在所述收容凹部的所述底面上的多个压缩空气供给孔向所述收容凹部供给所述压缩空气,从而进行所述基板的姿势矫正。
4.根据权利要求1所述的基板运送供给方法,其特征在于,
所述基板姿势矫正工序通过利用所述基板和所述基板运送供给装置的所述卡合部这两者构成呈密封状的所述收容凹部,并且通过设置在所述收容凹部的所述底面上的流体压力缓和机构向所述收容凹部供给所述压缩空气,从而进行所述基板的姿势矫正。
5.一种基板运送供给装置,用于将表面上安装有多个电子器件的基板运送到压缩树脂封装装置的上模面的下方位置,并且使所述基板的所述表面朝下且使所述基板的背面吸附到所述上模面并保持,该基板运送供给装置的特征在于,具备:
基板运送板部,放置所述基板;
进退往复运动机构,用于将所述基板运送板部配置为能够相对于所述上模面的下方位置前进及后退;和
基板变形姿势矫正机构,
所述基板运送板部具有:
卡合部,用于与所述基板的表面周边部位接合且使该表面周边部位卡合在规定位置;和
收容凹部,用于将全部所述电子器件以与所述卡合部不接触的状态进行收容,
所述基板变形姿势矫正机构具有:
压缩空气供给孔,在所述收容凹部的底面上配设多个;和
压缩空气供给机构,连通连接于所述压缩空气孔,
所述基板变形姿势矫正机构对由所述基板和所述基板运送供给装置的所述卡合部这两者形成为局部剖切状态的所述收容凹部或者形成为密封状状态的所述收容凹部,从所述收容凹部的所述底面向所述收容凹部供给压缩空气,以进行所述基板的姿势矫正。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东和株式会社,未经东和株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410247169.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。