[发明专利]一种有机发光显示装置及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示器制造领域，尤其是指一种有机发光显示装置及其制造方法。

背景技术

随着显示科技的日益进步，平面显示器以其轻、薄的特性，成为应用的主流。在各种平面显示器中，有机发光二极管显示器(Organic Electro luminescence Display，OLED)和有源矩阵有机发光二极管(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode，AMOLED)显示器的应用最广。

在OLED发光器件中，由发光层出射的光线，透过OLED器件各层，传输至外部，光线存在从一介质材料到另一介质材料时的折射，例如图1所示OLED器件的部分结构示意图，该OLED器件包括衬底101、设置于衬底101上的电极102和像素定义层103，其中像素定义层103在衬底101上具有多个开口，开口使电极102露出，形成预定图案，并在该开口处形成发光层105。然而，当发光层105所发出的光传输至像素定义层103时，由于像素定义层103与空气之间存在的折射率差别很大，从而致使光线在像素定义层103与空气的界面处发生全反射，将光线限制在像素定义层103内，而不能用于显示。

因此，在OLED发光器件的内部，当光线从一介质材料到另一介质材料时，存在很大的光损耗，期中在ITO与玻璃界面的光损耗大概占到50％，玻璃与空气界面的光损耗大概占30％，这样即使在内量子效率达到100％时，输出光效率也只能达到20％。如何增大光的输出效率成为提高OLED外量子效率的关键。

同样，在顶发射AMOLED显示器中同样存在光在不同介质界面传输时的光损耗问题。

发明内容

基于以上，本发明技术方案的目的是提供一种有机发光显示装置及其制造方法，用于提高有机发光显示装置的出光效率。

本发明提供一种有机发光显示装置，包括阳极层、阴极层和设置于阳极层和阴极层之间的像素定义层和发光层，其中所述像素定义层具有开口，所述发光层设置于所述开口中，其特征在于，所述发光层与所述像素定义层之间设置有折射率大于所述像素定义层的折射率的高折射率绝缘层。

优选地，上述所述的有机发光显示装置，其中，所述像素定义层的制作材料为聚酰亚胺、亚克力或酚醛树脂，所述高折射率绝缘层的制作材料为Ti₂O₃、TiO₂或ZnSe。

优选地，上述所述的有机发光显示装置，其中，所述高折射率绝缘层在所述开口处形成为弯曲弧形结构。

优选地，上述所述的有机发光显示装置，其中，所述弯曲弧形与所述阳极层所在平面之间的夹角位于20度至45度之间。

优选地，上述所述的有机发光显示装置，其中，所述高折射率绝缘层的厚度为10至1000nm。

优选地，上述所述的有机发光显示装置，其中，所述高折射率绝缘层邻近所述发光层的表面设置有多个相互呈不同倾斜角度的微平面，用于对传输至所述高折射率绝缘层的所述光线的角度进行折射，以使折射后的所述光线在传输至所述高折射率绝缘层与所述像素定义层的界面处时发生全反射。

优选地，上述所述的有机发光显示装置，其中，所述有机发光显示装置还包括薄膜晶体管阵列基板，设置于所述阳极层远离所述发光层的一侧。

优选地，上述所述的有机发光显示装置，其中，所述有机发光显示装置还包括彩膜基板，设置于所述阴极层远离所述发光层的一侧。

本发明还提供一种如上所述有机发光显示装置的制造方法，包括依次形成所述阳极层和所述像素定义层，还包括在所述像素定义层上形成所述高折射率绝缘层的步骤。

优选地，上述所述的制造方法，其中，在所述像素定义层上形成所述高折射率绝缘层的步骤包括：

通过蒸镀、磁控溅射等工艺在所述像素定义层上形成具有所述高折射率绝缘层的制成材料的膜层；

通过构图工艺在所形成膜层上、所述像素定义层的开口位置形成开口，使阳极层露出，构成为高折射率绝缘层本发明具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果：

通过在发光层与像素定义层之间设置折射率大于像素定义层的折射率的高折射率绝缘层，使得发光层所发出的、朝像素定义层传输的光线，能够在高折射率绝缘层和像素定义层的交界处产生全反射，达到提高有机发光显示装置的出光效率的效果。

附图说明

图1表示现有技术OLED发光器件的部分结构示意图；

图2表示本发明第一实施例所述有机发光显示装置的部分结构示意图；