[发明专利]一种CoCrPt系合金溅射靶材和薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种CoCrPt系合金溅射靶材，其特征在于：所述CoCrPt系合金溅射靶材含有B元素，B元素的含量为0～20个原子百分比,所述合金靶材包括富Co相和富B相两个物相，其中富B相均匀的分布在富Co相中，所述富Co相的平均晶粒尺寸在20～50μm,富B相的平均晶粒尺寸在0～20μm。 

2.根据权利要求1所述的CoCrPt系合金溅射靶材，其特征在于：所述合金靶材为Co11.5Cr22Pt10B或Co13Cr16Pt10B。 

3.根据权利要求1所述的CoCrPt系合金溅射靶材，其特征在于：所述合金靶材还含有Si,Ti,Ta,Y,Zr等元素中的一种或几种。 

4.根据权利要求1所述的CoCrPt系合金溅射靶材，其特征在于：所述合金靶材各元素的实际含量与名义含量的偏差<0.5at％。 

5.根据权利要求1所述的CoCrPt系合金溅射靶材，其特征在于：所述合金靶材的C含量<50ppm，O含量<50ppm，S含量<10ppm，N含量<10ppm。 

6.根据权利要求1所述的CoCrPt系合金溅射靶材，其特征在于：所述合金溅射靶材的矫顽力在3500～4500Oe，所述合金靶材厚度在4～9mm的厚度时，其透磁率为50％～80％之间。 

7.一种制备权利要求1所述的CoCrPt系合金溅射靶材的方法，包括： 

(1)真空熔炼：将物料按化学计量比进行配料，所述CoCrPt系合金溅射靶材含有B元素，B元素的含量为0～20个原子百分比,真空熔炼为中频真空感应熔炼，所使用坩埚为氧化铝或氧化锆坩埚，浇铸温度为1500～1650℃，在浇铸前，熔体在坩埚中包括有至少1次的凝固过程； 

(2)热等静压：所述铸锭需经过热等静压处理，温度800～1100℃，4N高纯Ar气氛，压力为150～200MPa,保温时间为1～3h； 

(3)热机械加工：经过上述热等静压处理的锭坯进行热轧开坯，轧制温度为 800～1100℃，进行横纵交替轧制，轧制的道次变形量不大于10％； 

(4)冷机械加工：经上述热机械加工的坯料需进行冷轧制和最终的机械加工成型，所述的冷轧制为纵向轧制，轧制的道次变形量不大于5％。

8.根据权利要求7所述的CoCrPt系合金溅射靶材的制备方法，其特征在于：还包括CoB中间合金制备的工序； 

所述的CoCrPt系合金靶材为Co11.5Cr22Pt10B或Co13Cr16Pt10B，所述合金靶材还含有Si,Ti,Ta,Y,Zr等元素中的一种或几种， 

所述真空感应熔炼过程中在浇铸之前需要有两次的凝固过程，第一次凝固时间不低于5分钟，第二次凝固的时间不低于15分钟。 

9.一种Co11.5Cr22Pt10B溅射靶材的制备方法，其特征在于含有以下工艺步骤： 

(1)原料准备：选用3N5以上的Co,Cr,Pt以及C含量<100ppm的B作为原料；(2)中间合金制备：根据合金的名义含量采用真空感应熔炼法制备Co₈₀B₂₀(原子百分比)的中间合金； 

(3)合金铸锭的制备：使用上述中间合金，根据名义成份Co11.5Cr22Pt10B进行配料，采用真空感应熔炼法制备合金铸锭，先抽真空到1×10^-1Pa以下，然后逐渐升温开始熔化物料，当物料全部熔化后，通氩气，停止加热，开始凝固物料，凝固约5～20min，然后继续升温，当物料全部熔化后，将铸锭浇注到模具中； 

(4)热等静压处理：在800～1000℃下，100～200MPa,3N5以上高纯氩气保护环境下对铸锭进行热等静压处理，处理时间为1～5h； 

(5)冷热机械加工：将上述处理后的铸锭在900～1100℃进行热轧，轧制的道次变形量为5％～8％，热轧总的变形量为40％～50％，轧制过程中进行横纵交替轧制；将热轧后的坯料进行冷轧处理，轧制的道次变形量为3％～5％，冷轧总的变形量 为20～30％，最终将上述坯料加工到所需要产品尺寸。 

10.一种使用权利要求1所述的CoCrPt系合金溅射靶材制备的磁记录介质，所述磁记录介质包括基底层，粘结层，软磁层，中间层和磁记录层，其特征在于：所述磁记录介质的矫顽力为3000～5000Oe，方形度为0.80～095，所述磁记录层的颗粒尺寸4～10nm，薄膜表面粗糙度为2～5nm。