[发明专利]纳米银线导电层叠结构及电容式触控面板

权利要求书

1.一种纳米银线导电层叠结构，其特征在于，其包括：

一可挠性基材；

一纳米银线导电电极层，置于所述可挠性基材表面；及

一增粘层，置于所述可挠性基材和纳米银线导电电极层之间，用于增加所述可挠性基材与所述纳米银线导电电极层的附着力,所述增粘层的热膨胀系数小于可挠性基材的热膨胀系数，所述增粘层包括一高折射率光学膜，置于所述可挠性基材表面，高折射率光学膜的折射率大于1.8；及一低折射率光学膜，置于所述高折射率光学膜表面，其中低折射率光学膜的折射率小于1.6。

2.如权利要求1所述纳米银线导电层叠结构，其特征在于：所述纳米银线导电电极层的厚度为10nm-200nm。

3.如权利要求1所述纳米银线导电层叠结构，其特征在于：所述纳米银线导电电极层包括纳米银线和基质，纳米银线相互搭接形成导电网络，其中所述纳米银线至少部分嵌入基质中，所述纳米银线导电电极层的方阻小于100ohm/s q。

4.如权利要求1所述的纳米银线导电层叠结构，其特征在于：所述增粘层的厚度为10nm-300nm。

5.如权利要求1所述的纳米银线导电层叠结构，其特征在于：所述纳米银线导电电极层在厚度方向上至少部分与增粘层相互嵌入。

6.如权利要求1所述的纳米银线导电层叠结构,其特征在于：所述增粘层材料为高分子聚合物、树脂、透明光学胶、氧化物、类光阻之任意一种或其组合。

7.如权利要求1所述纳米银线导电层叠结构，其特征在于：所述增粘层为一层光学膜，该光学膜的折射率为1.1-1.6。

8.如权利要求1所述纳米银线导电层叠结构，其特征在于：低折射率光学膜的折射率为1.1-1.6，高折射率光学膜的折射率为1.8-2.7。

9.一种电容式触控面板，其特征在于，包括：

一盖板，

一胶层，

一触控电路控制器，及

如权利要求1-8所述的纳米银线导电层叠结构，

其中，该胶层连接所述盖板和纳米银线导电层叠结构，且胶层粘接所述盖板任一面和纳米银线导电层叠结构的任一面，所述纳米银线导电层叠结构与所述触控电路控制器相连，实现触控。

10.如权利要求9所述的电容式触控面板，其特征在于：进一步包括一光学匹配层、一四分之一波长延迟片之任意一种或者其组合，所述光学匹配层位于盖板下方任意位置，所述四分之一波长延迟片位于纳米银线导电电极层和盖板之间。

11.如权利要求10所述的电容式触控面板，其特征在于：所述增粘层的厚度为四分之一波长的奇数倍。