[发明专利]一种刻蚀液储液装置及湿法刻蚀设备

权利要求书

1.一种刻蚀液储液装置，其特征在于，所述刻蚀液储液装置包括刻蚀液存储罐、用于将刻蚀液中的离子进行选择性透过的离子交换膜、以及位于所述离子交换膜两侧的阳极和阴极；

其中，所述离子交换膜与所述阳极之间构成第一腔室，所述离子交换膜与所述阴极之间构成第二腔室。

2.根据权利要求1所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述离子交换膜为阳离子交换膜；

其中，在所述阳极和所述阴极之间的电场作用下，所述刻蚀液中的金属离子从所述第一腔室通过所述阳离子交换膜进入到所述第二腔室。

3.根据权利要求2所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，

在所述金属离子为活泼金属的情况下，所述阳极和所述阴极均采用惰性电极；

在所述金属离子为非活泼金属的情况下，所述阳极采用惰性电极，所述阴极采用与所述金属离子同等材质的电极。

4.根据权利要求3所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述惰性电极包括碳电极。

5.根据权利要求2所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述阳离子交换膜、所述阳极和所述阴极均设置在所述刻蚀液存储罐的内部；

所述刻蚀液存储罐上还设置有进液口和排液口；

其中，所述进液口设置在所述第二腔室的顶部，所述排液口设置在所述第二腔室的底部。

6.根据权利要求5所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述第一腔室的容积大于所述第二腔室的容积。

7.根据权利要求2所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述刻蚀液储液装置还包括位于所述刻蚀液存储罐外部的电渗析装置；

所述阳离子交换膜、所述阳极和所述阴极均设置在所述电渗析装置的内部；

其中，所述第一腔室的顶部和底部分别与所述刻蚀液存储罐的顶部和底部连通。

8.根据权利要求7所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述刻蚀液储液装置还包括位于所述电渗析装置外部的废液罐；

其中，所述第二腔室的底部与所述废液罐连通。

9.根据权利要求1至8任一项所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述阳极和所述阴极采用棒状电极；

或者，所述阳极和所述阴极采用面状电极。

10.根据权利要求1所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述阳极与直流电源的正极相连，所述阴极与直流电源的负极相连；

其中，所述直流电源的功率可调。

11.根据权利要求1所述的刻蚀液储液装置，其特征在于，所述刻蚀液储液装置还包括与所述刻蚀液存储罐相连的浓度管理器，用于对所述刻蚀液的各个组分浓度进行实时监控。

12.一种湿法刻蚀设备，其特征在于，所述湿法刻蚀设备包括权利要求1至11任一项所述的刻蚀液储液装置。