[发明专利]黄疸光疗装置

权利要求书

1.一种黄疸光疗装置，其特征在于，包含有：

一本体，该本体界定一治疗空间；

一发光单元，朝向该治疗空间，该发光单元与该治疗空间之间有一照射路径，该发光单元用以发出一蓝光，该蓝光的波长介于425纳米至475纳米之间；

一个以上遮蔽层，位在该照射路径上，所述遮蔽层有一抗反射膜，用以供该蓝光穿透，该抗反射膜由低折射率材料与高折射率材料形成多层交相堆叠形态，且至少有一层的厚度为四分之一的一设定中心波长的整数倍，该设定中心波长介于该蓝光波长之间，该低折射率材料为氟化镁，该氟化镁之折射率为1.386，该高折射率材料为二氧化钛，该二氧化钛之折射率为2.568；

该抗反射膜选自下列四种镀膜之任一种:

第一种镀膜之第一层高折射率材料的膜厚为0.05该设定中心波长，第二层低折射率材料的膜厚为0.096该设定中心波长，第三层高折射率材料的膜厚为0.5该设定中心波长，第四层低折射率材料的膜厚为0.18该设定中心波长，第五层高折射率材料的膜厚为0.021该设定中心波长，又该蓝光进入该抗反射膜的入射角度为0度至20度之间；

第二种镀膜之第一层低折射率材料的膜厚为0.5该设定中心波长，第二层高折射率材料的膜厚为0.067该设定中心波长，第三层低折射率材料的膜厚为0.124该设定中心波长，第四层高折射率材料的膜厚为0.106该设定中心波长，第五层低折射率材料的膜厚为0.284该设定中心波长，又该蓝光进入该抗反射膜的入射角度为0度至20度之间；

第三种镀膜之第一层低折射率材料的膜厚为0.5该设定中心波长，第二层高折射率材料的膜厚为0.074该设定中心波长，第三层低折射率材料的膜厚为0.118该设定中心波长，第四层高折射率材料的膜厚为0.117该设定中心波长，第五层低折射率材料的膜厚为0.25该设定中心波长，第六层高折射率材料的膜厚为0.01该设定中心波长，又该蓝光进入该抗反射膜的入射角度为0度至25度之间；

第四种镀膜之第一层高折射率材料的膜厚为0.061该设定中心波长，第二层低折射率材料的膜厚为0.098该设定中心波长，第三层高折射率材料的膜厚为0.25该设定中心波长，第四层低折射率材料的膜厚为0.034该设定中心波长，第五层高折射率材料的膜厚为0.154该设定中心波长，第六层低折射率材料的膜厚为0.25该设定中心波长，又该蓝光进入该抗反射膜的入射角度为0度至25度之间。

2.如权利要求1所述的黄疸光疗装置，其特征在于：该设定中心波长为460纳米。

3.如权利要求1所述的黄疸光疗装置，其特征在于：该遮蔽层为该发光单元的一灯罩，该灯罩有两相对的罩面位在该照射路径上，前述罩面有该抗反射膜。

4.如权利要求1所述的黄疸光疗装置，其特征在于：该遮蔽层为连接在该本体上的一遮盖，该遮盖用以遮蔽该治疗空间，该遮盖有两相对的盖面位在该照射路径上，前述盖面有该抗反射膜。

5.如权利要求1所述的黄疸光疗装置，其特征在于：该遮蔽层为设置在该本体上的一承接座，该承接座有两相对的座面位在该照射路径上，前述座面有该抗反射膜。