[发明专利]双重图案化布局设计方法

说明书

本发明公开了一种双重图案化布局设计方法，该方法包括步骤：在原理电路上定义关键路径，所述关键路径包括第一路径和第二路径；以及定义双重图案化布局，所述双重图案化布局被划分成具有第一颜色的第一掩模布局和具有第二颜色的第二掩模布局，所述双重图案化布局与所述原理电路相对应。定义所述双重图案化布局的步骤包括在所述原理电路上锚定所述关键路径。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2013年6月24日提交的韩国专利申请No.10-2013-0072507的优先权，该申请的主题以引用的方式合并于此。

技术领域

本发明构思一般性地涉及半导体制造工艺，具体地涉及可在半导体制造中使用的双重图案化布局设计方法。

背景技术

双重图案化方法可用在半导体制造中以执行高分辨率蚀刻。在双重图案化方法中，使用两个或更多掩模对材料层进行图案化。由于使用了两个或更多的掩模，因而双重图案化方法可以提供使用单个掩模所不能实现的期望的分辨率水平。

发明内容

在本发明构思的一个实施例中，一种双重图案化布局设计方法包括步骤：在原理电路上定义关键路径，所述关键路径包括第一路径和第二路径；以及定义双重图案化布局，所述双重图案化布局被划分成具有第一颜色的第一掩模布局和具有第二颜色的第二掩模布局，所述双重图案化布局与所述原理电路相对应。定义所述双重图案化布局的步骤包括在所述原理电路上锚定所述关键路径。

在本发明构思的另一个实施例中，一种双重图案化布局设计方法包括步骤：接收关于已定义的原理电路和在所述原理电路上定义的关键路径的信息；定义双重图案化布局，所述双重图案化布局被划分成具有第一颜色的第一掩模布局和具有第二颜色的第二掩模布局，所述双重图案化布局与所述原理电路相对应；以及输出已定义的双重图案化布局。定义所述双重图案化布局的步骤包括在所述原理电路上锚定所述关键路径。

在本发明构思的另一个实施例中，一种配置为用于设计双重图案化布局的系统包括：处理器，其配置为在原理电路上对包括第一路径和第二路径的关键路径进行定义，并且对双重图案化布局进行定义，所述双重图案化布局被划分成具有第一颜色的第一掩模布局和具有第二颜色的第二掩模布局，所述双重图案化布局与所述原理电路相对应。对所述双重图案化布局进行定义包括在所述原理电路上对所述关键路径进行锚定。

通常，当为双重图案化布局上的相邻图案应用不同的颜色时，会独立地全局/局部表明电容方面的改变。如果为双重图案化布局上的关键路径应用不同的颜色，则会产生相当大的AC失配。因而在特定实施例中，为与关键路径相对应的多边形应用相同的颜色，从而减低由于双重图案化所引起的失配。

附图说明

附图示出了本发明构思的所选实施例。在附图中，相同的附图标记表示相同的特征。

图1是示出了根据本发明构思的一个实施例的双重图案化布局设计方法的流程图。

图2是示出了根据本发明构思的一个实施例的图1所示的布局设计步骤的流程图。

图3是示出了根据本发明构思的一个实施例的图2所示的关键路径锚定步骤的流程图。

图4是示出了根据本发明构思的一个实施例的图2所示的关键路径锚定步骤的应用示例的流程图。

图5是示出了根据本发明构思的另一个实施例的双重图案化布局设计方法的流程图。

图6A示出了根据本发明构思的一个实施例的在双重图案化期间相邻图案的对准。

图6B示出了根据本发明构思的一个实施例的由于在双重图案化期间相邻图案的移位(或未对准)所引起的电容方面的改变。

图6C示出了根据本发明构思的一个实施例的由于在双重图案化期间相邻图案的移位(或未对准)所引起的电容方面的另一改变。