[发明专利]保管设备有效
申请号: | 201410287316.3 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN104253076B | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 大塚洋;河村真辅;吉本忠浩 | 申请(专利权)人: | 株式会社大福 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 冯春时;李婷 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保管 设备 | ||
1.一种保管设备,包括:
保管装置,在与外部划分形成的保管空间的内部包括多个收纳部;
惰性气体供给部,向收纳在所述收纳部的容器的内部供给惰性气体,
其特征在于,
所述保管装置包括气体排出部,将包含从所述容器排出的气体的所述保管空间的内部的气体排出到所述保管空间的外部,
所述气体排出部包括节流开口部,作为限制气体的流量的节流部起作用,
所述节流开口部形成在所述收纳部的配置区域的下侧,
所述保管装置在所述保管空间的内部的所述收纳部的配置区域的下侧,包括经由所述节流开口部与所述配置区域连通的连通空间,
所述气体排出部包括将所述连通空间与所述保管空间的外部连通的外部连通部,
在所述连通空间配置有控制所述保管装置的工作的控制装置。
2.如权利要求1所述的保管设备,其特征在于,
所述节流开口部与所述外部连通部在与上下方向和所述节流开口部的开口方向分别垂直的方向,配置在互不相同的位置。
3.如权利要求1或2所述的保管设备,其特征在于,
所述保管装置包括排出促进部,促进由所述气体排出部排出气体。
4.如权利要求3所述的保管设备,其特征在于,
所述气体排出部包括向所述保管空间的外部送风的风扇,
所述排出促进部由所述风扇构成。
5.如权利要求1或2所述的保管设备,其特征在于,
所述惰性气体供给部被构成为:向收纳在多个所述收纳部所包含的对象收纳部的所述容器的内部供给惰性气体,
所述对象收纳部沿着排列方向配置多个,所述排列方向沿着水平面,
所述节流开口部的至少一部分在所述排列方向与所述对象收纳部配置在不同的位置。
6.如权利要求1或2所述的保管设备,其特征在于,
所述保管装置包括限制部,在所述收纳部的配置区域的下侧,限制气体不经由所述气体排出部向所述保管空间外部的排出。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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