[发明专利]一种甲钴胺片有关物质的测定方法有效
申请号: | 201410288671.2 | 申请日: | 2014-06-24 |
公开(公告)号: | CN104122363A | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
发明(设计)人: | 徐春玲;徐秀卉;陆振宇;宋远征;姚丽萍;蒋国潮;徐鹏鹤;丁忠海 | 申请(专利权)人: | 杭州康恩贝制药有限公司 |
主分类号: | G01N30/89 | 分类号: | G01N30/89 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 肖承云 |
地址: | 310052 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 甲钴胺片 有关 物质 测定 方法 | ||
技术领域
本发明涉及分析化学技术领域,更具体地说,涉及一种甲钴胺片有关物质的测定方法。
背景技术
甲钴胺又名甲基维生素B12,是一种深红色结晶或结晶性粉末;无臭、无味;引湿性强;遇光易分解;甲钴胺分子式为C63H91CON13O14P,分子量为1344.38,其结构是以钴离子为中心的大环络合物,该结构式如下:
甲钴胺是甲钴胺片的有效活性成分,是维生素B12(氰钴胺)的衍生物,从上述结构式中可知,因在中央钴分子上结合了一个甲基基团,参与物质的甲基转换及核酸、蛋白质和脂肪代谢,所以甲钴胺片的主要功能是修复损伤的神经,缓解麻木、疼痛和感觉异常,对周围神经病变具有良好的治疗作用,已在临床上得到广泛应用。
众所周知,甲钴胺在弱酸条件下较为稳定,强酸(pH<2)或碱性溶液中分解,遇热可有一定程度破坏,但短时间的高温消毒损失小,遇强光或紫外线易被破坏。由于本身化学性质的不稳定,甲钴胺在强光下会降解生成羟钴胺。羟钴胺和甲钴胺片的制备及储运过程中可能引入的其他杂质统称为有关物质。该有关物质会对甲钴胺片的安全性和有效性产生一定的影响。因此,如何准确测定甲钴胺片中有关物质的含量,是正确评价甲钴胺片质量的重要指标,也是提升临床应用量的关键因素。
发明人统计目前市售的口服固体剂型,发现目前市场销售的甲钴胺制剂以片剂、胶囊剂为主,制剂的生产工艺大多都涉及制粒、包衣步骤;可见,在甲钴胺制剂的生产过程中,如何快速、准确的检测有关物质(如氰钴胺、羟钴胺等)的含量,将其控制在药品标准范围内,对甲钴胺类产品的产业化有着非常重要的作用。
令人遗憾的是,在中国药典中尚未收录甲钴胺有关物质的检测方法,而现有的文献报道中,仅有对甲钴胺原料有关物质的检测方法,鲜见有对其制剂有关物质的检测方法;如文献《HPLC测定甲钴胺中的有关物质》(谢丽华、陈乔、陈晓艳,《河北化工》,2011年3月第34卷第3期,P51-52)中公开的检测方法,主要是通过甲钴胺的起始原料来检测甲钴胺原料的有关物质,该方法并不适用甲钴胺制剂(特别是甲钴胺片)的有关物质检测。
目前,我公司对甲钴胺片有关物质的检测,其方法是按照国家药品标准(标准号为YBH12912006)规定的步骤操作,具体如下:①去除片剂的薄膜包衣;②将去除包衣后的片子研磨成细粉;③称取细粉适量,加有机溶剂稀释,定容、进样;④用高效液相色谱等度洗脱。该检测方法的不足之处在于:①由于甲钴胺片为包衣片,采用该检测方法对片剂的辅料较敏感,若不完全去除包衣则对 有关物质的检测结果有干扰;②由于该片剂的片型小,因此去除包衣困难,多一道工序,较繁琐;③在避光条件下,存在去衣不干净的因素,会影响检测的准确性;④辅料峰与杂质峰有重叠,分离度差、积分有干扰;⑤实践证明,同样的检测方法使用不同仪器,各杂质的分离效果不同,说明采用该检测方法测得的检测结果重现性差,不具有稳定性指示作用。
综上所述,现有的甲钴胺片有关物质的检测方法,主要存在检测步骤繁琐、检测灵敏度低、辅料峰与杂质峰的分离度差、检测结果的重现性差等技术缺陷。因此,如何克服上述技术缺陷,提供一种快速、准确的检测方法,更好的控制本产品质量,是本领域技术人员急需解决的技术难题。
发明内容
本发明提供一种甲钴胺片有关物质的测定方法,能够精准控制本制剂产品的质量,解决了上述现有技术的缺陷。
为实现上述发明目的,本发明采取了以下技术方案:
一种甲钴胺片有关物质的测定方法,包括如下步骤:
(1)供试品的制备:直接研磨甲钴胺片至细粉,取适量细粉置于量瓶中,加流动相使细粉溶解、稀释至刻度,制成浓度为0.25mg/ml的溶液;摇匀、滤过,取续滤液作为供试品溶液;
(2)对照品的制备:取适量步骤(1)所得的供试品溶液,加流动相稀释至刻度,制成浓度为7.5μg/ml的溶液,作为对照品溶液;
(3)采用高效液相色谱测定有关物质的含量:取步骤(2)所得的对照品溶液注入液相色谱仪,调节检测灵敏度,再精密量取供试品溶液和对照品溶液分别注入液相色谱仪,记录色谱图至甲钴胺峰保留时间的2倍,供试品溶液中 单个杂质含量不得大于1.0%,总杂质含量不得大于2.0%。
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