[发明专利]胶头和胶管一体化运动结构有效
申请号: | 201410294868.7 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN105319855B | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 王阳;胡延兵 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 21002 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人: | 何丽英 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 胶管 一体化 运动 结构 | ||
本发明涉及半导体生产中的设备,具体地说是一种胶头和胶管一体化运动结构。所述结构设置于涂胶单元内部,包括执行机构、胶管、胶头及托架结构,其中执行机构设置于胶杯的一侧,所述托架结构滑动连接于执行机构上,所述托架结构上沿运动方向依次布设有多个胶管,所述托架结构上还设有多个与各胶管相对应的胶头,各胶管的一端与托架结构连接,另一端与其相对应的胶头连接,所述胶管托架带动胶管和胶头一起沿平行于胶管排列方向移动。本发明实现多个胶头更换,防止胶管互相干涉,提高设备稳定性。
技术领域
本发明涉及半导体生产中的设备,具体地说是一种胶头和胶管一体化运动结构。
背景技术
在半导体晶圆生产中的匀胶显影设备内部,涂胶胶头的固定和胶管的固定是分离的,通常是胶头放在移动的平台上,胶管根部固定在固定的平台上。在更换胶头的过程中,胶头移动,胶管的固定部分不移动,这种情况下,会造成胶管发生扭转,胶管和胶管之间发生干涉,进而产生摩擦,造成胶管破损,既不利于设备稳定运行,也会因为胶管的摩擦产生粉尘颗粒,这些颗粒会导致半导体生产的良率下降。
为解决上诉问题,需要一种新型的胶头和胶管的分布结构和一种新型的运动方式,避免由于胶管之间的干涉和摩擦产生的问题。
发明内容
针对上述问题,本发明的目的在于提供一种胶头和胶管一体化运动结构,该结构位于半导体生产中涂胶单元内部,通过这样的结构避免胶管的互相干涉和摩擦。
为了实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种胶头和胶管一体化运动结构,所述结构设置于涂胶单元内部,包括执行机构、胶管、胶头及托架结构,其中执行机构设置于胶杯的一侧,所述托架结构连接于执行机构上、并通过执行机构的驱动作直线运动,所述托架结构上沿运动方向依次布设有多个胶管,所述托架结构上还设有多个与各胶管相对应的胶头,各胶管的一端与托架结构连接,另一端与其相对应的胶头连接,所述托架结构通过执行机构的驱动,带动胶管和胶头一起沿平行于胶管排列方向移动。
所述托架结构包括胶管托架、总体托架及胶头托架,其中总体托架连接于执行机构上,所述胶管托架和胶头托架设置于总体托架上,所述胶管的一端与胶管托架连接,所述胶头设置于胶头托架上。
所述各胶管均为倒置U形结构。所述胶头的排列方向与托架结构的运动方向平行。所述执行机构包括架体、电机、滚珠丝杠及螺母,其中电机和滚珠丝杠设置于架体上、并电机的输出端与滚珠丝杠连接,所述螺母与滚珠丝杠连接,所述托架结构与螺母连接。
本发明的优点及有益效果是:
本结构是在匀胶显影设备中涂胶单元内部,是多个光刻胶胶头更换的一种结构,应用这种一体化运动结构,可以实现多个胶头更换,防止胶管互相干涉,提高设备稳定性。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图;
图2为本发明一端极限位置的俯视示意图;
图3为本发明另一端极限位置的俯视示意图。
其中:1为胶管托架,2为总体托架,3为执行机构,4为胶管,5为胶头,6为胶头托架,7为胶杯,8为胶杯中心点。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步描述。
如图1所示,本发明设置于涂胶单元内部,包括执行机构3、胶管4、胶头5及托架结构,其中执行机构3设置于胶杯7的一侧,所述托架结构连接于执行机构3上,所述托架结构上沿运动方向依次布设有多个胶管4。所述托架结构上还设有多个与各胶管4相对应的胶头5,各胶管4的一端与托架结构连接,另一端与其相对应的胶头5连接。所述托架结构带动胶管4和胶头5一起沿平行于胶管4排列方向移动。
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