[发明专利]掩模挡板及其制造方法有效
| 申请号： | 201410303046.0 | 申请日： | 2014-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN104102094A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 高玉杰;朴相镇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 挡板 及其 制造 方法 | ||
1.一种掩膜挡板的制造方法，其特征在于，包括：
步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；
步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。
2.根据权利要求1所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，在步骤S1之前还包括：
步骤S0、调整所述至少一块遮光板的位置，所述遮光板遮挡共用掩模板的部分所述第一透光区域以形成所述第二透光区域。
3.根据权利要求2所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述步骤S0位于所述步骤S1之后。
4.根据权利要求1所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述步骤S2包括：
步骤S21、在所述遮光层上形成负性光刻胶，所述负性光刻胶包括：保留区域和非保留区域，所述保留区域对应所述第二透光区域；
步骤S22、曝光光线通过所述第二透光区域对所述负性光刻胶的保留区域进行曝光；
步骤S23、对曝光后的所述负性光刻胶进行显影；
步骤S24、对所述遮光层进行刻蚀形成所述遮光图案；
步骤S25、对所述遮光图案上的负性光刻胶进行剥离。
5.根据权利要求1-4中任一所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述遮光板的数量为四块，其中两块所述遮光板在第一平面内平行设置且在所述第一平面内沿第一方向运动，另外两块所述遮光板在第二平面内平行设置且在所述第二平面内沿第二方向运动，所述第一方向与所述第二方向垂直。
6.根据权利要求1-4中任一所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述遮光层的材料为金属材料。
7.一种掩膜挡板，其特征在于，所述掩膜挡板采用上述权利要求1至6中任一所述的掩膜挡板的制造方法制成。
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