[发明专利]掩模挡板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及掩模挡板及其制造方法。

背景技术

在液晶显示面板生产中，需要在阵列基板或者彩膜基板上滴注液晶和封框胶，然后将两基板进行对盒，再将封框胶固化，其中，封框胶的作用是粘接阵列基板和彩膜基板，并且保护中间的液晶不受外界空气和水的影响。

其中，在两基板对盒后，需要对封框胶进行紫外固化，其中在进行紫外固化时，需要用到于与待固化产品尺寸相对应的紫外固化用的掩模挡板，该掩模挡板包括透光区域和非透光区域，其中掩模挡板板的透光区域对应待固化产品中的封框胶位置，从而使得紫外光线能对封框胶进行紫外固化，掩模挡板的非透光区域对应待固化产品的显示区域，从而避免紫外光线对显示区域内部件的损坏。

该掩模挡板具体包括透明衬底和位于透明衬底上的遮光图案，该遮光图案即为掩模挡板的非透光区域，现有技术中形成掩模挡板的方法大致如下，首先在透明衬底上沉积一层遮光材料；然后在遮光材料上涂覆正性光刻胶，该正性光刻胶包括保留区域和非保留区域；再然后选取相应尺寸的掩模板来对正性光刻胶的保留区域进行曝光；最后通过显影、刻蚀、正性光刻胶剥离等步骤得该遮光图案。

然而，由于待固化产品尺寸大小存在差异，因此在紫外固化过程中所使用的掩模挡板也会不同(掩模挡板上遮光区域的大小和分布均变化)，同时生产这些不同的掩模挡板需要用到不同的掩模板(在曝光过程中)。而配置这些不同的掩模板会给整个产线带来较大的成本，使得经济为效应降低。

为解决上述问题，目前一些厂商采用共用化设计，仅利用在生产大尺寸待固化产品对应的掩模挡板时所使用的大尺寸掩模板，来生产小尺寸待固化产品对应的掩模挡板。

图1为正性光刻胶对应的大尺寸掩模板的示意图，图2为正性光刻胶经过四次曝光的示意图，如图1和图2所示，其具体地生产过程如下：首先在透明衬底上形成遮光材料，并在遮光材料上形成正性光刻胶，由于遮光材料上方的光刻胶为正性光刻胶，因此该大尺寸掩模板的中间位置为非透光区域1，大尺寸掩模板的周边位置为透光区域2；然后安装大尺寸掩模板，并将大尺寸掩模板与透明衬底进行对位；再然后调整四次透明衬底的位置(上、下、左、右各一次)，并每调整一次位置后均进行一次曝光处理，经过四次曝光后正性光刻胶上仅有一个小块区域没有被曝光；再经过显影步骤、刻蚀步骤后，该小块区域的正性光刻胶下方的遮光材料得到保留即为遮光图案；最后进行光刻胶剥离步骤得到小尺寸待固化产品对应的掩模挡板。

然而，现有的这种利用大尺寸掩模板生产小尺寸待固化产品对应的掩模挡板的过程中，需要在对位后移动四次透明衬底，并进行四次曝光过程，从而使得生产工艺的时间偏长，生产效率较低。

发明内容

本发明提供一种掩模挡板及其制造方法，在实现利用大尺寸掩模板生产小尺寸待固化产品对应的掩模挡板的同时，能有效的缩短生产工艺的时间，提升生产效率。

为实现上述目的，本发明提供一种掩膜挡板的制造方法，包括：

步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；

步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。

可选地，在步骤S1之前还包括：

步骤S0、调整所述至少一块遮光板的位置，所述遮光板遮挡共用掩模板的部分所述第一透光区域以形成所述第二透光区域。

可选地，所述步骤S0位于所述步骤S1之后。

可选地，所述步骤S2包括：

步骤S21、在所述遮光层上形成负性光刻胶，所述负性光刻胶包括：保留区域和非保留区域，所述保留区域对应所述第二透光区域；

步骤S22、曝光光线通过所述第二透光区域对所述负性光刻胶的保留区域进行曝光；

步骤S23、对曝光后的所述负性光刻胶进行显影；

步骤S24、对所述遮光层进行刻蚀形成所述遮光图案；

步骤S25、对所述遮光图案上的负性光刻胶进行剥离。

可选地，所述遮光板的数量为四块，其中两块所述遮光板在第一平面内平行设置且在所述第一平面内沿第一方向运动，另外两块所述遮光板在第二平面内平行设置且在所述第二平面内沿第二方向运动，所述第一方向与所述第二方向垂直。

可选地，所述遮光层的材料为金属材料。

为实现上述目的，本发明还提供一种掩膜挡板，所述掩膜挡板采用上述的掩膜挡板的制造方法制成。