[发明专利]光分解型配向膜的制作方法、液晶显示面板和显示装置在审
申请号: | 201410304525.4 | 申请日: | 2014-06-27 |
公开(公告)号: | CN104049412A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 柴慧平;袁永;柳晨;单文泽 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 刘松 |
地址: | 201201 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分解 制作方法 液晶显示 面板 显示装置 | ||
1.一种光分解型配向膜的制作方法,其特征在于,包括:
步骤a、对涂布有光分解型配向膜材料的基板进行紫外偏光处理,所述光分解型配向材料分解成分解产物,其中,所述分解产物包括至少一种非聚合物;
步骤b、采用清洗剂对紫外偏光后的基板进行清洗,去除所述非聚合物,形成光分解型配向膜。
2.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述采用清洗剂对紫外偏光后的基板进行清洗,具体为:
采用清洗剂对紫外偏光后的基板进行线性喷射清洗。
3.如权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述线性喷射的方向与基板上光分解型配向膜的配向方向一致。
4.如权利要求2或3所述的制作方法,其特征在于,所述采用清洗剂对紫外偏光后的基板进行线性喷射清洗,具体为:
采用清洗剂对紫外偏光后的基板进行线性喷射清洗,所述基板处于传送状态,所述基板的传送方向和所述清洗剂的线性喷射方向相反。
5.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,在步骤b之后,还包括:
采用风刀吹干所述光分解型配向膜;或,采用液体清洗所述光分解型配向膜。
6.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述风刀的烘干温度范围为15~100℃。
7.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,当所述非聚合物为极性分子时,所述清洗剂为非质子极性有机溶剂;
当所述非聚合物为非极性分子时,所述清洗剂为非极性有机溶剂;
当所述非聚合物包括极性分子和非极性分子时,所述清洗剂为包括非质子极性有机溶剂和非极性有机溶剂的混合溶剂。
8.如权利要求7所述的制作方法,其特征在于,当所述非聚合物为极性分子时,所述清洗剂为极性大于4的非质子极性有机溶剂。
9.如权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述非质子极性有机溶剂为强挥发性的极性有机溶剂。
10.如权利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述非质子极性有机溶剂包括甲苯、丙酮、氯仿、甲基乙基酮和苯胺中的一种或几种;所述非极性有机溶剂包括正戊烷和正己烷中的一种或几种。
11.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤a包括:
在所述基板上涂布光分解型配向材料;
对涂布有所述光分解型配向材料的基板进行预烘烤处理,去除光分解型配向材料中的溶剂;
对预烘烤处理后的基板进行紫外偏光处理,所述光分解型配向材料分解成分解产物。
12.如权利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述对涂布有光分解型配向材料的基板进行预烘烤处理之后,还包括:
对预烘烤处理后的基板进行二次烘烤处理,用于去除所述光分解型配向材料中的溶剂。
13.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述采用清洗剂对紫外偏光后的基板进行清洗,具体为:在15~80℃的温度条件内采用清洗剂对紫外偏光后的基板进行清洗。
14.一种液晶显示面板,其特征在于,包括第一基板、第二基板,以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的液晶层,其中,所述第一基板和/或所述第二基板朝向所述液晶层的一侧表面具有配向膜,所述配向膜采用如权利要求1~13任一项所述的光分解型配向膜的制作方法得到。
15.一种显示装置,其特征在于,包括背光模组,以及如权利要求14所述的液晶显示面板;其中,所述的液晶显示面板位于所述背光模组的出光侧。
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