[发明专利]黑色聚酰亚胺膜及其加工方法在审
| 申请号： | 201410307981.4 | 申请日： | 2014-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN104419205A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 林志维;罗吉欢 | 申请（专利权）人： | 达迈科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08K3/04;C08K3/34;B32B15/08;B32B27/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 苗征;于辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 黑色 聚酰亚胺 及其 加工 方法 | ||
1.一种黑色聚酰亚胺膜，包括：聚酰亚胺聚合物，其由二胺化合物及二酐化合物反应而形成；以及碳黑，含有氧原子与碳原子，其中该氧原子对该碳原子之重量比为11％以上。
2.如权利要求1所述的黑色聚酰亚胺膜，其中，以该聚酰亚胺膜之总重计算，分布在该聚酰亚胺聚合物中的该碳黑占0.5wt％至10wt％。
3.如权利要求1所述的黑色聚酰亚胺膜，其中，该碳黑中的氧原子对碳原子的重量比至少等于或高于15％。
4.如权利要求1所述的黑色聚酰亚胺膜，其中，该碳黑中的氧原子对碳原子的重量比至少等于或高于19％。
5.如权利要求1所述的黑色聚酰亚胺膜，进一步包括消光剂。
6.如权利要求5所述的黑色聚酰亚胺膜，其中，该消光剂选自聚酰亚胺粉体、氧化硅、或其组合。
7.一种积层板，包括：
如权利要求1-6中任一项所述的黑色聚酰亚胺膜；以及
一或复数金属层，其设置于该黑色聚酰亚胺膜的表面。
8.一种聚酰亚胺膜，包括：聚酰亚胺聚合物，其由二胺化合物及二酐化合物反应而形成；碳黑，含有氧原子与碳原子，其中该氧原子对该碳原子之重量比为11％以上；以及消光剂，该消光剂选自聚酰亚胺粉体、氧化硅、或其组合。
9.如权利要求8所述的聚酰亚胺膜，其中，以该聚酰亚胺膜之总重计算，该碳黑占0.5wt％至10wt％。
10.如权利要求8所述的聚酰亚胺膜，其中，该碳黑中的氧原子对碳原子的重量比至少等于或高于15％。
11.如权利要求8所述的聚酰亚胺膜，其中，该碳黑中的氧原子对碳原子的重量比至少等于或高于19％。
12.一种积层板，包括：
如权利要求8-11中任一项所述的聚酰亚胺膜；以及
一或复数金属层，其设置于该聚酰亚胺膜的表面。
13.一种黑色聚酰亚胺膜的加工方法，包括：
提供黑色聚酰亚胺膜，其中该黑色聚酰亚胺膜包含有聚酰亚胺聚合物及碳黑，该碳黑的氧原子对碳原子的重量比为11％以上；以及
对于该黑色聚酰亚胺膜进行蚀刻，其中，该聚酰亚胺聚合物及该碳黑的蚀刻速率大约相同。
14.如权利要求13所述的加工方法，其中，以该聚酰亚胺膜之总重计算，该碳黑占0.5wt％至10wt％。
15.如权利要求13所述的加工方法，其中，该碳黑中的氧原子对碳原子的重量比至少等于或高于15％。
16.如权利要求13所述的加工方法，其中，该碳黑中的氧原子对碳原子的重量比至少等于或高于19％。
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