[发明专利]一种立体成洞洞石瓷砖制备方法

权利要求书

1.一种立体成洞洞石瓷砖制备方法，包括制备成孔材料；制备面料；制备底料；制备釉料；布料；干燥；施釉和烧制成型；其特征在于，所述制备成孔材料，按照质量的百分比，各取球粘土5～10％、低温熔块粉10～20％、石墨粉10～20％、、碳酸钠10～15％、碳酸钙粉20～30％、抛光废渣5～10％。经过研磨加工和喷雾干燥成粉料。

2.如权利要求1所述的立体成洞洞石瓷砖制备方法，其特征在于，所述制备面料，所述成孔材料作为发泡料按照10～20％的比例，加入常规的面料里面。

3.如权利要求1所述的立体成洞洞石瓷砖制备方法，其特征在于，所述制备釉料，按照质量的百分比，各取石英5～8％、钠长石10～20％、钾长石10～35％、方解石8～25％、高岭土8～10％、烧滑石5～8％、透明熔块5～10％、氧化铝3～5％、增强纤维10～20％、釉用甲基0.2％、三聚0.2％、水50％、快球球磨12min，过250目筛。

4.如权利要求1所述的立体成洞洞石瓷砖制备方法，其特征在于，所述布料，按照整块转的百分比进行双层布料，面料占40％、底料占60％。

5.如权利要求1所述的立体成洞洞石瓷砖制备方法，其特征在于，所述干燥，在200℃的条件下，烘5～10min，最后坯体中含水率低于0.2％。

6.如权利要求1所述的立体成洞洞石瓷砖制备方法，其特征在于，所述施釉，出干燥窑后降温至60℃左右，再进行施釉。

7.如权利要求1所述的立体成洞洞石瓷砖制备方法，其特征在于，所述施釉，将透明熔块代替透明釉料施加到所述瓷砖表面。

8.如权利要求1所述的立体成洞洞石瓷砖制备方法，其特征在于，所述烧制成型，送入辊道窑在1100～1250℃下烧制60min。