[发明专利]缺陷检查方法在审
| 申请号： | 201410318251.4 | 申请日： | 2014-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN104280405A | 公开（公告）日： | 2015-01-14 |
| 发明（设计）人： | 小林信次;波冈诚;森定郁夫;及川伸 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本东京都中*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 缺陷 检查 方法 | ||
1.一种缺陷检查方法，其是薄膜的缺陷检查方法，其特征在于，
在所述薄膜的第一主面侧配置具有700000cd/m2以上的亮度的高亮度光源，在所述薄膜的第二主面侧从偏离了所述高亮度光源的光轴的位置，通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
2.如权利要求1所记载的缺陷检查方法，其特征在于，
所述高亮度光源的亮度在1000000cd/m2以上。
3.如权利要求1或2所记载的缺陷检查方法，其特征在于，
所述目视的观察方向是相对于从所述高亮度光源射出的光的光轴构成50°以上80°以下的角度的方向。
4.如权利要求1或2所记载的缺陷检查方法，其特征在于，
将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面正交的方向，从相对于所述薄膜的所述第二主面倾斜的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
5.如权利要求1或2所记载的缺陷检查方法，其特征在于，
将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面倾斜的方向，从相对于所述薄膜的所述第二主面正交的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
6.如权利要求3所记载的缺陷检查方法，其特征在于，
将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面正交的方向，从相对于所述薄膜的所述第二主面倾斜的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
7.如权利要求3所记载的缺陷检查方法，其特征在于，
将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面倾斜的方向，从相对于所述薄膜的所述第二主面正交的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
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