[发明专利]缺陷检查方法在审

专利信息
申请号: 201410318251.4 申请日: 2014-07-04
公开(公告)号: CN104280405A 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: 小林信次;波冈诚;森定郁夫;及川伸 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 肖华
地址: 日本东京都中*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 缺陷 检查 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及缺陷检查方法。

背景技术

作为偏振膜等薄膜的缺陷检查方法,已知有利用自动检查的缺陷检查方法以及利用目视的缺陷检查方法。

例如,在日本特开2008-175609号中,作为利用自动检查的缺陷检查方法,揭示有以下方法:将在规定的方向上线性偏振的激光束照射于薄膜,在使透过了薄膜的激光束透过偏振片后对其进行受光,检测出缺陷,所述偏振片在与照射时的激光束的偏振方向平行的方向上具有吸收轴。

另一方面,作为利用目视的缺陷检查方法,已知有将非偏振的光照射于薄膜,并直视观察被照明的薄膜的图像的方法(明视野观察)。

发明内容

近年,随着智能手机和触屏终端的普及,对于这些设备所使用的薄膜的缺陷的要求基准变得严格。在缺陷检查工序中,要求能够检测30μm以下的尺寸的微小缺陷的技术。在日本特开2008-175609号中记载有能够对尺寸分别为70μm、90μm、120μm的缺陷进行检测的情况。但是,关于能够检测30μm以下的尺寸的微小缺陷的情况没有记载。

另一方面,在利用目视的明视野观察中,由于无法将微小缺陷作为辉点检测出来,因此难以高精度地检测出30μm以下的尺寸的微小缺陷。

本发明所涉及的形态是鉴于这种情况而做出的,其目的在于提供一种能够高精度地对30μm以下的尺寸的微小缺陷进行检测的缺陷检查方法。

为了达到上述目的,本发明采用了以下的手段。

(1)本发明的一个形态所涉及的缺陷检查方法是薄膜的缺陷检查方法,在所述薄膜的第一主面侧配置具有700000cd/m2以上的亮度的高亮度光源,在所述薄膜的第二主面侧从偏离了所述高亮度光源的光轴的位置,通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。

(2)在上述(1)的形态中,所述高亮度光源的亮度也可以是1000000cd/m2以上。

(3)在上述(1)或(2)的形态中,所述目视观察方向也可以是相对于从所述高亮度光源射出的光的光轴构成50°以上80°以下的角度的方向。

(4)在上述(1)至(3)的任意一项的形态中,也可以将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面正交的方向,从相对于所述薄膜的所述第二主面倾斜的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。

(5)在上述(1)至(3)的任意一项的形态中,也可以将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面倾斜的方向,从相对于所述薄膜的所述第二主面正交的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。

根据本发明所涉及的形态,能够提供一种能高精度地检测出30μm以下的尺寸的微小缺陷的缺陷检查方法。

附图说明

图1是第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。

图2是比较例所涉及的缺陷检查方法的说明图。

图3是比较例所涉及的缺陷检查方法的说明图。

图4是第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。

图5是第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。

图6是示出在第一实施形态所涉及的缺陷检查方法中,使用了富士仓公司制造的LED灯作为实施例1所涉及的高亮度光源时的检测缺陷的图。

图7是示出在第一实施形态所涉及的缺陷检查方法中,使用了CSC(シーズシー)公司制造的普拉瑞(polarion)灯作为实施例2所涉及的高亮度光源时的检测缺陷的图。

图8是第二实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。

具体实施方式

以下,一边参照附图一边对本发明的实施形态进行说明,但本发明并不限于以下的实施形态。

另外,在以下全部的附图中,为使看图变得容易,使各个构件要素的尺寸和比例等变得适当。又,在以下的说明以及附图中,相同或者相当的要素使用同一符号,省略重复的说明。

(第一实施形态)

图1是本发明的第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。在图1中,符号Sf1是薄膜F的下表面(第一主面)。符号Sf2是薄膜F的上表面(第二主面)。

如图1所示,本实施形态所涉及的缺陷检查方法是薄膜F的缺陷检查方法,将高亮度光源1配置于薄膜F的第一主面Sf1侧,在薄膜F的第二主面Sf2侧从偏离了高亮度光源1的光轴CL的位置通过目视对被高亮度光源1照明的薄膜F的图像进行观察。

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