[发明专利]一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法无效
| 申请号： | 201410320287.6 | 申请日： | 2014-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN104148334A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 李立 | 申请（专利权）人： | 太仓华德石太工业设备有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州市太仓市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 针对 工业 局部 清洁 碳氢化合物 等离子体 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：
设置真空泵舱内的压力，根据实现的反应过程不同通入气体，如果是氧化反应则通入氧化，如果是还原反应则通入氩氢气，通过质量流量控制器控制流入装置的气体数量，在所述气体中通过一个微波源引入能量。
2.根据权利要求1所述的针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法，其特征在于，设置真空泵舱内的压力为0.1～0.5毫巴。
3.根据权利要求1或2所述的针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法，其特征在于，微波的频率为2.45千兆赫兹、13.56兆赫、20千赫或40千赫。
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