[发明专利]一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洁方法，尤其涉及一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法。 

背景技术

当给一块材料持续性供应能量时，它的温度会自行上升，并且在通常情况下，会由液态向气态转化。当人们继续给其供应能量时，材料的各种基本组成部分的动能会随着温度的上升而增多到一个临界点。此时因为气态分子和原子的相互碰撞，由电子组成的原子外层会被打破，由此产生了带负电的电子和带正电的离子。 

人们称这种由中性的、带正电的和带负电的粒子组成的混合物为等离子体，经常被认为是“物质的第四态”。等离子体容易被外界的电磁场影响，也因此具有良好的可控性。而且因为其高能量的属性，在其他物质状态时无法进行的反应可以在等离子体状态下发生。这些特性使等离子体成为一个极其高效和灵活的，适用于工业领域的工具。 

自然界中的等离子体有，比如极光、闪电、太阳。但是事实上在日常生活中我们也经常遇到等离子体，像在节能灯中或者荧光灯中。大气压下的等离子体都是十分灼热的，因为活跃的高温的微粒们会通过频繁碰撞向所有其它的微粒们传导能量。例如火焰和电弧。 

但是在较低的压力下也可以产生等离子体，比如在100帕斯卡的情况下，不过这时微粒间的碰撞几率很小，活跃的、带电的微粒也极少能够向中性微粒输送能量。因为如果后者的数量即使在高度电离的等离子体中仍然占大多数的话，这个等离子体的整体就会呈现冰凉的状态，更确切地说-不热-这正是处理各类材料时所期望出现的情况。这种冷 等离子体几乎不会影响样品材料；然而电子却可以拥有相当于若干个1000开的能量，因此能使一些在常温下不能发生的化学和物理反应得以发生。 

这种低压等离子体是可以被人工集中制造出来的，只需在一个真空舱中，通过接通高频的电磁场来激发气体或者气体混合体进行放电就能完成。这时气体被电离了，并产生了化学自由基和紫外线射线。由此出现一种高度活跃的反应气体，它能和处理对象的表面发生反应，相互作用。每次所期望的效果可以通过选择相应的气体组合、耦合的频率和种类来实现。 

发明内容

本发明的目的在于提供一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法。 

本发明采用如下技术方案实现： 

一种针对工业局部清洁的碳氢化合物/等离子体的清洁方法，其特征在于，该方法包括如下步骤： 

设置真空泵舱内的压力，根据实现的反应过程不同通入气体，如果是氧化反应则通入氧化，如果是还原反应则通入氩氢气，通过质量流量控制器(MFC)控制流入装置的气体数量，数量的选择一般由大约1毫巴的反应压所决定。而这种压力的大小又是根据真空泵的功率大小和通入的气体数量来制定，在所述气体中通过一个微波源引入能量。 

这三种频率的不同在于，在等离子体中产生的离子不能跟上微波的频率，也因为这样，一个纯粹的化学反应能够进行。在兆赫或千赫的频率下，离子会因为频率的刺激作用而加速，材料表面则会相应留下微观结构的侵蚀痕迹。同时这两种频率有其它结构性的缺点。发出兆赫的设备要求有一个昂贵的、复杂的调谐网，如此电极(发送者)才不会被反 馈回来的能量所破坏。引入的能量把气体转化成一个等离子体。这个等离子体由不同的化学成分组成。它们分别是已电离的部分、高度活跃的自由基、所有化学上可能产生的化合物以及紫外线射线。 

进一步的，设置真空泵舱内的压力为0.1～0.5毫巴。 

进一步的，微波的频率为2.45千兆赫兹、13.56兆赫、20千赫或40千赫。 

本发明的有益技术效果是： 

它能达到现今最高的清洁水平。绝对无油脂的表面。它是去除较薄的剩余污渍的首选。在清洁介质中，它最后不会产生污垢积聚，仅仅只是一些气态的化学物质。使用的化学物质都是无害的，因为是和一些气体打交道。可切断的化学反应意味着，一旦拔掉电源，整个反应过程就会自动停止。等离子体适用于所有材料的清洁和新生(金属、陶瓷、玻璃、合成材料)。气体反应具备非常良好的缝隙侵入性，因为气体没有表面张力。所以等离子体可以深入比如各种裂缝中和精细的孔眼中。等离子体处理后的各个构件都是绝对干燥的，即使在经过了液态的初步清洗后再进行等离子体精密清洁，通过真空能达到很好的干燥水平。因为几乎只把氧气作为反应气体，所以整个操作是极其环保的过程。没有特殊的工作防护需求，能量消耗是非常低的。 

具体实施方式