[发明专利]发光元件在审

专利信息
申请号: 201410344865.X 申请日: 2014-07-18
公开(公告)号: CN105322083A 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 吴健铭;李荣仁;徐子杰;张敏南 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/60 分类号: H01L33/60
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 元件
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种发光元件,且特别是涉及一种发光元件,其包含一反射结构以反射一光线,其中光线于一入射角入射反射结构时具有最大反射率。

背景技术

发光二极管(LightEmittingDiode,LED)为固态半导体发光元件,其优点为功耗低,产生的热能低,工作寿命长,防震,体积小,反应速度快和具有良好的光电特性,例如稳定的发光波长。因此发光二极管被广泛应用于家用电器,设备指示灯,及光电产品等。

发明内容

为解决上述问题,本发明提供一发光元件,包含:一基板;一半导体叠层,其可发出一光线;一第一反射结构位于基板与半导体叠层之间,以反射光线;以及一第二反射结构位于基板与半导体叠层之间,其中光线于一第一入射角入射第一反射结构时具有最大反射率,光线于一第二入射角入射第二反射结构时具有最大反射率,其中第二入射角大于第一入射角。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附的附图作详细说明如下。

附图说明

图1为本发明一实施例中所揭示的发光元件的剖视图;

图2为本发明一实施例所揭示的发光元件的部分剖视图;

图3为本发明一实施例所揭示的发光元件的剖视图;

图4为本发明一实施例所揭示的发光元件的部分剖视图。

符号说明

1、2:发光元件

10:基板

12:半导体叠层

121:第一导电性半导体层

122:主动层

123:第二导电性半导体层

14:第一反射结构

14a:第一半导体层

14b:第二半导体层

16、28:第二反射结构

16a、28a:第三半导体层

16b、28b:第四半导体层

281:氧化区

282:未氧化区

18:第三反射结构

18a:第五半导体层

18b:第六半导体层

19、29:第二电极

291:打线电极

292:电流阻挡层

293:延伸电极

20:第一电极

具体实施方式

为了使本发明的叙述更加详尽与完备,请参照下列实施例的描述并配合相关图示。但是,以下所示的实施例用于例示本发明的发光元件,并非将本发明限定于以下的实施例。又,本说明书记载于实施例中的构成零件的尺寸、材质、形状、相对配置等在没有限定的记载下,本发明的范围并非限定于此,而仅是单纯的说明而已。且各图示所示构件的大小或位置关系等,会由于为了明确说明有加以夸大的情形。更且,在以下的描述中,为了适切省略详细说明,对于同一或同性质的构件用同一名称、符号显示。

图1为本发明一实施例中所揭示的发光元件1的剖视图。发光元件1,例如发光二极管,包含:一基板10;以及一半导体叠层12位于基板10上,可发出一光线。一或多个反射结构,例如第一反射结构14,第二反射结构16或第三反射结构18,位于基板10与半导体叠层12之间,以反射来自半导体叠层12所发出的光线,其中多个反射结构反射大致相同波长的光线。光线于一第一入射角θ1入射第一反射结构14时具有最大反射率,光线于一第二入射角θ2入射第二反射结构16时具有最大反射率,其中第二入射角θ2与第一入射角θ1不同。具体而言,来自半导体叠层12所发出的光线于介于0~20度之间的第一入射角θ1自半导体叠层12入射第一反射结构14时具有最大反射率,例如大于50%,较佳大于80%,更佳大于90%的反射率,但第一入射角θ1的范围不以此为限制。来自半导体叠层12所发出的光线于介于20~60度之间的第二入射角θ2自半导体叠层12入射第二反射结构16时具有最大反射率,例如大于50%,较佳大于80%,更佳大于90%的反射率,但第二入射角θ2的范围不以此为限制。在本发明的一实施例中,第一入射角θ1或第二入射角θ2可为一角度或是一角度范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410344865.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top