[发明专利]一种用于监控介质膜厚的测试电容结构及测试方法

权利要求书

1.一种测试电容结构，用于监控介质膜的厚度，其特征在于，所述测试电容结构包括：

上极板，包括第一突出部分；

下极板，与所述上极板错开交叠设置，所述下极板包括第二突出部分；

第一测试垫，与所述上极板的第一突出部分连接；

第二测试垫，与所述下极板的所述第二突出部分连接；

所述第一测试垫和第二测试垫中的一个用于输入测试信号，另一个用于输出测试信号；其中

所述上极板和下极板设置为使所述上极板的第一突出部分或下极板的第二突出部分不与另一极板的任何部分交叠。

2.一种如权利要求1所述的测试电容结构，其中待监控的所述介质膜设置在上下极板交叠部分之间。

3.一种如权利要求1所述的测试电容结构，其中所述上极板和下极板的形状都为矩形。

4.一种如权利要求1所述的测试电容结构，其中所述介质膜的介电常数固定。

5.一种电容测试方法，用于监控介质膜的厚度，其特征在于，所述电容测试方法包括：

提供一下极板，所述下极板包括第二突出部分；

在所述下极板上形成介质膜；

提供一上极板，设置在所述介质膜上，所述上极板与所述下极板错开交叠设置，所述上极板包括第一突出部分；

提供一第一测试垫，与所述上极板的第一突出部分连接；

提供一第二测试垫，与所述下极板的第二突出部分连接；

所述上极板和下极板设置为使所述上极板或所述下极板的突出部分不与另一极板的任何部分交叠；

从所述第一测试垫和第二测试垫中的一个输入信号，从另一个输出信号，进行所述介质膜的电容的测试，进而监控所述介质膜的厚度。

6.一种如权利要求5所述的电容测试方法，其中所述上极板和下极板的形状都为矩形。

7.一种如权利要求5或6所述的电容测试方法，其中所述介质膜的介电常数固定。