[发明专利]蒸发镀膜装置有效

专利信息
申请号: 201410347668.3 申请日: 2014-07-21
公开(公告)号: CN104178734A 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: 赵德江;王路;藤野诚治 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26;C23C14/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 蒸发 镀膜 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及蒸发镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发镀膜装置。

背景技术

目前,在真空环境中,将有机材料加热、蒸发,并镀到基板上的技术称为蒸发镀膜技术(简称蒸镀)。该技术凭借应用范围广、污染程度小等优点,被业内的技术人员所青睐。

其中,蒸发镀膜工艺过程中的加热源普遍使用线源,线源通常为加热丝,可以提高镀膜效率和材料的利用率。下面以线源蒸发镀膜技术应用于OLED(Organic Light-Emitting Diode,发光二极管)产品中的具体过程为例进行说明:将有机材料装入与基板尺寸匹配的坩埚内,通过环绕或贴合在坩埚外围的加热丝对坩埚内的有机材料进行加热,材料加热后通过坩埚顶端的多个蒸发孔均匀蒸发到坩埚上侧的基板表面上,以完成OLED产品中基板的镀膜操作。

如今,OLED产品正在朝大尺寸方向发展,导致其基板的尺寸也越来越大,对应的坩埚尺寸也变大,从而加热用线源也越来越长,因此对于大尺寸基板,线源的温度均一控制等难度增加,使有机材料在基板表面成膜的均一性变差。

发明内容

本发明的实施例提供一种蒸发镀膜装置,解决了由于加热用线源越来越长,导致有机材料在基板表面成膜的均一性变差的问题。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一种蒸发镀膜装置,包括:柱状体,所述柱状体包括表面设有凹槽的筒体,以及与所述筒体匹配套装的中空套筒;所述凹槽沿所述筒体中心线方向延伸设置,且所述凹槽内设有多个间隔设置的隔间;所述中空套筒顶端区域设有第一蒸发孔;坩埚,所述坩埚包括一端敞口、四周密封的本体,以及与所述本体匹配连接的盖罩,且所述盖罩上设有与所述第一蒸发孔相对应的第二蒸发孔;所述本体置于所述隔间内;加热体,所述加热体为中空柱状结构,且所述柱状体位于所述加热体内部;所述加热体上设有与所述第一蒸发孔相对应的喷嘴;内加热丝,所述内加热丝连接有控制单元,且所述内加热丝设在所述隔间位置处;外加热丝,所述外加热丝设在所述加热体外表面。

其中,所述中空套筒为圆形截面的柱状结构,且沿所述柱状结构的轴向方向为两端贯通设置;所述筒体的横截面为U型,所述隔间在所述凹槽内等距、均匀排布;所述隔间包括平行设置的两个隔板,两个所述隔板、两个所述隔板之间的部分所述筒体共同构成所述隔间。

具体地,所述坩埚的横截面为圆形结构,且所述本体的横截面为与所述筒体横截面相符的U型结构;所述坩埚的本体与所述盖罩之间铰接连接;所述第一蒸发孔包括有多个,且沿所述柱状体中心线方向成排设置。

优选地,所述第二蒸发孔位于所述盖罩的侧表面,且临近所述盖罩的顶端设置;所述第一蒸发孔位于所述中空套筒的侧表面,且临近所述中空套筒的顶端设置。

进一步地,对应所述隔间区域,所述筒体的内侧壁上设有冷凝管。

实际应用时,所述喷嘴为圆柱状,且包括有多个;多个所述喷嘴沿所述加热体延伸方向成排设置。

其中,所述加热体上端侧还设有遮板,所述遮板包括有两个,且分别位于所述喷嘴两侧;两个所述遮板均倾斜设置。

具体地,所述内加热丝均匀缠绕在所述中空套筒表面,且与所述坩埚位置相对应;所述外加热丝均匀缠绕在所述加热体表面。

实际应用时,对应所述隔间区域和两个所述隔间之间,所述蒸发镀膜装置还包括有与所述控制单元连接的晶振感应件;所述晶振感应件用于检测蒸发镀膜的速率。

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