[发明专利]硅片显影定影装置

说明书

技术领域

    本发明涉及硅片显影定影装置。

背景技术

目前，硅片加工工艺中的显影定影设备主要是硅片浸没晃动显影定影设备，这种设备需要在显影定影液中将硅片晃动清洗，虽然能大批量处理硅片，但晃动过程中容易导致硅片破碎损坏。还有一种是采用喷嘴在硅片上喷洒显影定影液，同时硅片低速旋转，这种设备处理硅片数量少，而且设备成本高。

发明内容

为了克服上述现有技术存在的缺点，本发明的目的在于提供一种处理硅片效率高，结构简单，成本低的硅片显影定影装置。

    为了解决上述问题，本发明采用以下技术方案：一种硅片显影定影装置，其特征在于，它包括槽体、槽盖、吹气泵、吸气泵、气体罐、流量调节阀和气体分流装置，所述吹气泵的进气端与气体罐连通，其出气端与所述气体分流装置连通，在出气端与气体分流装置连通的管道上设置所述流量调节阀；所述吸气泵的进气端与槽体连通，其出气端与所述气体罐连通；所述气体分流装置设置在槽体底部。

    优选的，所述气体分流装置为分流管，所述分流管上设置有若干出气孔。

    作为本发明的另一个优选实施例，所述气体分流装置为设置在所述槽体底部的盒体，所述盒体的上表面设置有若干出气孔。

    本发明的有益效果是：它通过在槽体内设置气体分流装置，在显影定影液中通入气体，利用气泡的冲击力对硅片进行清洗，同时，气体可回收利用，不仅不会对环境造成污染，而且使用成本低。

附图说明

    下面结合附图和实施例对本发明做进一步的说明：

图1为本发明第一实施例的俯视结构示意图；

图2为本发明第二实施例的主视结构示意图。

图中，1槽体、2槽盖、3吹气泵、4吸气泵、5气体罐、6流量调节阀、7气体分流装置。

具体实施方式

    下面结合附图对本发明做进一步详细描述：

如图1和图2所示，本发明的第一实施例和第二实施例均包括槽体1、槽盖2、吹气泵3、吸气泵4、气体罐5、流量调节阀6和气体分流装置7。

所述吹气泵3的进气端通过管道与气体罐5连通，吹气泵3的出气端与所述气体分流装置7通过管道连通，为了调节气体分流装置7的气体流量，在出气端与气体分流装置7连通的管道上设置所述流量调节阀6。

所述吸气泵4的进气端与槽体1的上端连通，吸气泵4的出气端与所述气体罐5连通。所述气体分流装置7设置在槽体1底部。

为了保证清洗时气体不泄露，槽盖2的边缘设置有密封条，且槽盖2采用较厚的钢板，槽盖2盖在槽体1上时与槽体1紧密配合。

对本发明的第一实施例，如图1所示，首先需要说明的是，图1中并未画出槽盖2。本实施例中所述气体分流装置7为分流管，所述分流管上设置有若干出气孔，分流管的形状可以多种多样，图1中所示的也不是唯一的形状，例如还可以是弯曲的“S”型，分流管可以是直接放置在槽体1的底部，也可以焊接在槽体1的底部。

对本发明的第二实施例，如图2所示，它的气体分流装置7为设置在所述槽体1底部的盒体，所述盒体的上表面设置有若干出气孔，盒体的大小与槽体1的底部相同，盒体可以直接焊接在槽体1底部，也可以放置在槽体1底部。

由于氮气稳定性较强，不会与显影定影液反应，因此气体罐5内装入氮气，使用时，将硅片篮放置在槽体1内，倒入显影定影液，盖上槽盖2，打开吸气泵和吹气泵，开始对硅片清洗。气体在气体罐5和槽体1内循环。

以上所述只是本发明的优选实施方式，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也被视为本发明的保护范围。