[发明专利]电感结构的制作方法以及电感结构

权利要求书

1.一种电感结构的制作方法，其特征在于，包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成介质层和位于所述介质层中的电感线圈，所述介质层覆盖所述电感线圈；

对所述介质层表面进行平坦化处理；

在位于所述电感线圈内部区域的介质层中形成第一凹槽；

在所述第一凹槽内以及所述介质层上形成磁性材料层；

去除位于所述介质层上的磁性材料层，位于所述第一凹槽内的磁性材料层形成磁性层。

2.根据权利要求1所述的电感结构的制作方法，其特征在于，所述平坦化处理为化学机械研磨，在所述衬底上形成介质层的步骤中，使介质层表面与电感线圈表面的最小高度差在0.2微米到3微米的范围内。

3.根据权利要求1所述的电感结构的制作方法，其特征在于，在对所述介质层表面进行平坦化处理的步骤之后，在位于所述电感线圈内部区域的介质层中形成第一凹槽之前，所述电感结构的制作方法还包括：在所述介质层上形成钝化层，所述钝化层的厚度在500埃到5000埃的范围内。

4.根据权利要求1所述的电感结构的制作方法，其特征在于，形成所述第一凹槽的方法包括：在介质层上形成具有第一开口的第一图形化掩膜层，所述第一开口暴露出位于所述电感线圈内部区域的介质层上表面；

以所述第一图形化掩膜层为掩膜刻蚀所述介质层，在位于所述电感线圈内部区域的介质层内形成第一凹槽。

5.根据权利要求1所述的电感结构的制作方法，其特征在于，在所述衬底上形成位于所述介质层中的电感线圈的步骤中，所述制作方法还包括：形成位于所述介质层中的互连结构，所述互连结构包括焊盘，所述焊盘和电感线圈均为顶层金属材料。

6.根据权利要求5所述的电感结构的制作方法，其特征在于，形成所述第一凹槽的方法包括：在所述介质层上形成具有第一开口和第二开口的第二图形化掩膜层，所述第一开口暴露出位于所述电感线圈内部区域的介质层上表面，所述第二开口暴露出焊盘上方的介质层上表面；以所述第二图形化掩膜层为掩膜，以所述焊盘表面作为停止层，刻蚀所述介质层形成露出焊盘表面的第二凹槽，在位于所述电感线圈内部区域的介质层内形成第一凹槽，之后去除所述第二图形化掩膜层；

或者，

形成所述第一凹槽的方法包括：在所述介质层上形成具有第二开口的第三图形化掩膜层，所述第二开口暴露出焊盘上方的介质层上表面；以所述第三图形化掩膜层为掩膜，刻蚀所述介质层形成露出所述焊盘表面的第二凹槽，之后去除所述第三图形化掩膜层；在所述介质层表面形成具有第一开口的第四图形化掩膜层，所述第一开口暴露出位于所述电感线圈内部区域的介质层上表面；以所述第四图形化掩膜层为掩膜刻蚀所述介质层，在所述第一区域内形成第一凹槽，然后去除所述第四图形化掩膜层。

7.根据权利要求6所述的电感结构的制作方法，其特征在于，去除位于所述介质层上的部分磁性材料层的方法包括：

对所述磁性材料层进行各向异性刻蚀，去除位于所述介质层的表面、第二凹槽内的部分磁性材料层，在所述第一凹槽内形成磁性层。

8.根据权利要求1所述的电感结构的制作方法，其特征在于，所述磁性层的材料为铁、钴、镍中的一种或几种金属材料，或者，所述磁性层的材料为铁、钴、镍中的两种或三种金属的合金，或者，所述磁性层的材料为锰锌合金。

9.根据权利要求1所述的电感结构的制作方法，其特征在于，所述磁性材料层的材料为NiFe合金，所述NiFe合金中Ni的含量范围为50％～95％。

10.一种采用权利要求1至9中任意一项制作方法所形成的电感结构，其特征在于，包括：

衬底；

位于衬底上的介质层，所述介质层上表面齐平；

位于所述介质层中的电感线圈，所述介质层覆盖所述电感线圈；

位于所述电感线圈内部区域的介质层中的第一凹槽；

位于所述第一凹槽内的磁性层。