[发明专利]浸没式光刻机流体控制系统的模块化工作流程控制方法

说明书

技术领域

本发明涉及系统控制领域中工作流程的模块控制方法，尤其涉及一种浸没式光刻机流体控制系统的模块化工作流程控制方法。

技术背景

光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，现代光刻机以光学光刻为主，通过图形转换技术以光刻胶为中间媒介将掩膜版上的图形转移到硅片上已形成所需要的图形。每一代新集成电路的出现，总是以光刻工艺实现更小特征尺寸为主要技术标志。

浸没式光刻技术是在光刻机投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片上的光刻胶间充满高折射率的液体。相对于中间介质为空气的干式光刻机，提高了投影物镜的数值孔径(NA)，从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。浸没式光刻技术使得193nm ArF光刻机向65 nm和45 nm节点延伸成为可能。目前常采用的方案是局部浸没法，即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面的局部区域内（以下简称局部区域），并在步进扫描的过程中保持稳定连续的液体流动。

流体控制系统是浸没式光刻设备中的一个关键组件，用来实现光刻机局部区域液体的平稳注入和回收，并保证无泄漏和气泡的产生。系统内部器件数量比较多，控制过程复杂。

传统的流程设计多采用根据系统的工作要求，事先确认出系统的工作流程，从而完成系统内部器件的协调配合。这种方法在系统器件比较少时，工作流程设计相对简单。而流体动力控制系统中器件数量比较多，工作流程就要应对于不同的工作状态，如系统待机、开机、运行、关机，各种类型的故障状态制定所涉及相应器件的协调控制，因此，工作流程的制定变得非常复杂，且系统控制中单个功能实现的独立性能差，灵活性差。

发明内容

本发明的目的是提供一种浸没式光刻机流体控制系统的模块化工作流程控制方法，以简化流程设计过程，提高系统的控制的灵活度，简化控制过程，保证流体控制系统设计过程的有效性、高效性及可靠性。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：

根据目标系统流体的传输路线及流体性质，将该系统分为多个具有不同功能的控制模块；分别制定每个控制模块各自的工作流程、状态位及故障位；在控制模块各自的工作流程中采用阻塞方法进行自动模式下各个控制模块之间工作流程的时序配合，通过调用控制模块的接口对手动模式下各个控制模块的工作流程进行控制。

所述的控制模块的工作流程包括待机、开机和关机三个依次进行的工作流程，控制模块的状态位包括开机状态和关机状态，控制模块的故障位包括故障状态和非故障状态。

所述的采用阻塞体系进行各个控制模块之间工作流程的时序配合具体包括以下步骤：各个控制模块首先同时进入各自的工作流程，当控制模块之间需时序配合时，在时序配合中的后置控制模块的工作流程中，对前置控制模块的状态位进行判断，若前置控制模块的当前状态位不符合所需要的状态位时，则后置控制模块的工作流程阻塞，直到前置控制模块的状态位符合所需要的状态位，则后置控制模块继续工作流程。

当监测到某一控制模块出现故障时，则该控制模块对应的故障位设置为故障状态，同时该控制模块进入关机流程对故障进行处理，其他控制模块进入待机流程；当故障经处理排除后，故障处理后的控制模块故障位设置为非故障状态，并重新进入工作流程，其他控制模块继续各自所需的流程。

所述的控制模块提供开机工作流程和关机工作流程的接口，手动模式下通过调用两个接口独立控制每个控制模块的工作流程。

本发明具有的有益效果是：

（1）本发明的模块流程设计方法与传统的流程设计相比，使原本应对于多种状态的流程简化为对应模块的流程设计，简化了系统的流程设计过程。

（2）模块工作流程具有独立性，且单个模块故障对系统的影响减小，提高了系统工作的灵活度及增加系统的稳定性。

（3）采用了阻塞体系保证系统运行时模块间能够较好的协调配合，保证了流体控制系统设计过程的有效性、高效性及可靠性。

附图说明

图1是本发明中浸没式光刻机流体控制系统的原理示意图。

图2是本发明工作流程的模块示意图。

图3是本发明中注液模块工作流程。

图4是本发明中注气模块工作流程。

图5是本发明中气液回收模块工作流程。

具体实施方式

下面结合附图和实施例详细说明本发明的具体实施过程。