[发明专利]神经元与神经胶质细胞有序共培养装置、制备方法及神经元与神经胶质细胞有序共培养方法

权利要求书

1.一种用于神经元与神经胶质细胞有序共培养的装置，其特征在于，包括基底和聚二甲基硅氧烷印章，所述聚二甲基硅氧烷印章可移除地复合在所述基底上；

所述聚二甲基硅氧烷印章包含至少一个微孔单元，所述微孔单元包含依次排列的、至少一个垂直于所述基底的第一通孔和至少一个垂直于所述基底的第二通孔，所述第一通孔和第二通孔分别与基底表面形成一端开口的凹槽；

所述第一通孔和第二通孔的距离为500μm～2000μm。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微孔单元还包括与第一通孔和第二通孔依次排列的至少一个垂直于所述基底的第三通孔。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第三通孔与所述第二通孔的距离为500μm～2000μm。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一通孔和第二通孔的横截面为长方形。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述第一通孔横截面的长为1.0cm～2.0cm，宽为0.5cm～2.0cm；

所述第二通孔横截面的长为1.0cm～2.0cm，宽为0.5cm～2.0cm。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基底表面孵育有细胞外基质。

7.一种用于神经元与神经胶质细胞有序共培养的装置的制备方法，包括：

制备聚二甲基硅氧烷印章，所述聚二甲基硅氧烷印章包含至少一个微孔单元，所述微孔单元包含依次排列的、至少一个垂直于所述基底的第一通孔和至少一个垂直于所述基底的第二通孔，所述第一通孔和第二通孔的距离为500μm～2000μm；

将所述聚二甲基硅氧烷印章贴附于基底表面，所述第一通孔和第二通孔分别与基底表面形成一端开口的凹槽。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷印章按照以下方法制备：

采用微机械加工技术在模板上制备至少一个凹形线型微结构单元，所述凹形线型微结构单元包含依次排列的、至少一个第一凹形条和至少一个第二凹型条，所述第一凹型条和第二凹型条的距离为500μm～2000μm；

用聚二甲基硅氧烷对所述模板上的凹形线型微结构单元进行二次翻膜，得到聚二甲基硅氧烷模板；

去除所述聚二甲基硅氧烷模板上第一凹型条和第二凹型条的底面，得到聚二甲基硅氧烷印章。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述第一凹型条的横截面为长方形，长为1.0～2.0cm，宽为0.5～2.0cm；所述第二凹型条的横截面为长方形，长为1.0～2.0cm，宽为0.5～2.0cm。

10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述微孔单元还包括与第一通孔和第二通孔依次排列的至少一个垂直于所述基底的第三通孔。

11.一种神经元细胞与胶质细胞有序共培养的方法，其特征在于，包括：

在基底上孵育细胞外基质；

将聚二甲基硅氧烷印章连接在孵育有细胞外基质的基底上，所述聚二甲基硅氧烷印章包含至少一个微孔单元，所述微孔单元包含依次排列的、至少一个垂直于所述基底的第一通孔和至少一个垂直于所述基底的第二通孔，所述第一通孔和第二通孔分别与基底表面形成一端开口的凹槽；所述第一通孔和第二通孔的距离为500μm-2000μm；

分别向所述第二通孔中加入神经胶质细胞悬浮溶液和第一通孔中加入神经元原代细胞悬浮液，进行培养；

培养完毕后，去除聚二甲基硅氧烷印章，将表面粘附有神经胶质细胞和神经元细胞的基底进行共培养。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述微孔单元还包括与第一通孔和第二通孔依次排列的至少一个垂直于所述基底的第三通孔；

向所述第二通孔中加入神经胶质细胞悬浮溶液和向所述第一通孔和第三通孔中加入神经元原代细胞悬浮液，进行培养。

13.根据权利要求11或12所述的方法，其特征在于，首先加入神经胶质细胞悬浮溶液，进行第一步培养至神经胶质细胞粘附在基底表面；

然后加入神经元原代细胞悬浮液，进行第二步培养至神经元细胞粘附在基底表面。