[发明专利]导电片成分无效
申请号: | 201410364059.9 | 申请日: | 2014-07-28 |
公开(公告)号: | CN104341762A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 郑恩慧;申赞均;林钟喆;金男炫 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | C08L69/00 | 分类号: | C08L69/00;C08L55/02;C08L83/04;C08K7/24 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 导电 成分 | ||
技术领域
本发明涉及一种导电片成分。在示例性实施方式中,导电片成分可具有优异的导电性和机械物理性能并且降低表面光泽度。
背景技术
人们集中精力研究导电聚合物,作为用于各种电子工业领域中的新型材料,例如,电子元件、半导体、显示器、汽车、卫星通信等。随着IT产业的快速发展,其重要性浮现出来。
通常,由于聚合物材料是电绝缘子,所以在处理或使用时,静电荷累积在聚合材料的表面上。静电荷的累积可通过短路损害电子装置,和/或在该表面上累积的静电荷可吸引灰尘,在用于半导体等中时,这可造成严重的问题。
由于生成静电、灰尘等会造成污染,所以在安装集成电子电路以及与其相关的核心元件时,频繁地发生由上述静电问题造成的故障。因此,越来越需要防止起电并且管理污染源,例如,灰尘和有害物质。
精密电子元件(例如,半导体集成电路芯片和/或各种模块等)可由防静电容器输送,以防止在输送期间生成的静电损坏元件。例如,在托盘用作电子元件输送容器时,由于在输送或处理期间,与元件产生摩擦或者与人体的某些部位接触,所以静电荷可在托盘的表面上累积。由于表面电荷造成静电损害,所以需要适当地将表面电荷放电,以保护电子元件。
因此,为了给在电子行业领域中使用的片提供导电性,可将导电剂或填料加入成分中或者可使用导电聚合物。例如,可使用金属纤维、金属粉末、作为具有导电性的有机材料的内在消耗型聚合物(IDP)或炭黑。然而,在使用IDP时,该片可显示表面电阻并且具有最大大约为109到1010ohm/sq的低导电率。在炭黑的情况下,可显示在104到106ohm/sq范围内的高表面电阻。然而,炭黑生成灰尘,由于机械物理性能(例如,冲击强度、延伸率等)退化,所以该灰尘可对环境带来负面影响,并且降低产品的可靠性。此外,需要大量炭黑来保持导电性。
韩国专利号0695503涉及通过在多层薄膜的外表面层上包括导电填料(例如,炭黑等),制造具有导电性的薄膜。然而,薄膜的制造复杂、低效并且不划算。
国际专利公开号WO2008-020579涉及一种导电树脂成分,用于减少电子元件的污染并且具有与胶带的优异的紧密粘附性,导电树脂成分包含炭黑。然而,导电树脂成分可在成分的表面上生成灰尘,由于表面光泽度,从而在传感器中生成误差,并且由于包含大量炭黑,所以可生成污染。
因此,需要一种克服上述问题的技术。
发明内容
本发明的一个实施方式涉及提供一种导电片成分,该成分能够具有优异的机械物理性能以及导电性,并且能够降低表面光泽度,以在各种精密电子产品的制造过程中传感器应用于模块时,防止传感器发生故障。
本发明的另一个实施方式涉及提供一种导电片成分,该成分能够具有机械物理性能(例如,冲击强度、延伸率等)以及高表面电阻,并且能够实现消退效应。本发明的另一个实施方式涉及提供一种模制品,该模制品包括在应用于电子行业过程中时能够提高可靠性的导电片或膜。
通常,一方面,提供了一种导电片成分,其包括:聚碳酸酯树脂(A)、橡胶改性乙烯基接枝共聚物(B)、碳纳米管(C)以及硅胶颗粒(D)。
导电片成分可包括均基于大约100重量份的聚碳酸酯树脂(A)的大约1到大约10重量份的橡胶改性乙烯基接枝共聚物(B)、大约0.5到大约5重量份的碳纳米管(C)以及大约0.5到大约5重量份的硅胶颗粒(D)。
碳纳米管(C)可具有大约0.5到大约100nm的平均直径以及大约0.01到大约100μm的平均长度。
硅胶颗粒(D)可为聚烷基倍半硅氧烷。
硅胶颗粒(D)可具有大约0.1到大约10μm的平均粒度。
聚碳酸酯树脂(A)可具有大约10,000到大约200,000g/mol的重均分子量(weight average molecular weight)(Mw)。
通过接枝聚合包括橡胶聚合物、芳香乙烯基化合物以及乙烯基氰化合物的单体混合物,可制备所述橡胶改性乙烯基接枝共聚物(B)。
橡胶改性乙烯基接枝共聚物(B)可为丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)接枝共聚物。
在另一个实施方式中,提供了一种模制品,其包括使用上述导电片成分制造的导电片。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410364059.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。