[发明专利]电化学抛光设备有效
| 申请号： | 201410366491.1 | 申请日： | 2014-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN105316755B | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 杨宏超;金一诺;张怀东;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/16 | 分类号： | C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张振军 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷嘴 正极 喷出部 护盖 电化学抛光 开口 凸缘 嵌套 导电金属 绝缘材料 开口周围 抛光工艺 形状匹配 负极 不规则 抛光液 喷出 伸入 液柱 包围 | ||
【权利要求书】：
1.一种电化学抛光设备，包括：
正极喷嘴，所述正极喷嘴由导电金属制成，所述正极喷嘴具有喷出抛光液的喷出部，所述正极喷嘴在工艺过程中被电蚀；
负极喷嘴；
供电部件，正极喷嘴与供电部件的正极电连接，负极喷嘴与供电部件的负极电连接；
其特征在于，还包括：
护盖，所述护盖具有开口，该开口的形状与所述喷出部的形状匹配，所述开口周围具有凸缘，所述正极喷嘴的喷出部伸入所述开口并嵌套在所述凸缘包围的空间内，所述护盖由绝缘材料制成。
2.根据权利要求1所述的电化学抛光设备，其特征在于，所述正极喷嘴的喷出部以及所述护盖的开口的形状为方形。
3.根据权利要求1所述的电化学抛光设备，其特征在于，所述正极喷嘴的材料为铜，所述护盖的材料为塑料。
4.根据权利要求1所述的电化学抛光设备，其特征在于，还包括：导电底板，该导电底板具有供抛光液流通的孔洞，所述正极喷嘴具有供抛光液流入的流入部，所述流入部与所述孔洞对接。
5.根据权利要求4所述的电化学抛光设备，其特征在于，所述流入部和喷出部之间具有突出的支撑部，所述流入部嵌入所述孔洞内，所述支撑部支撑在所述孔洞周围的导电底板上，所述护盖固定在所述导电底板上。
6.根据权利要求4或5所述的电化学抛光设备，其特征在于，所述导电底板的材料为铜。
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