[发明专利]一种卷绕式ITO结晶设备

说明书

技术领域

本发明涉及ITO结晶膜生产设备，特别涉及了一种卷绕式ITO结晶设备。

背景技术

现在对于薄膜ITO结晶来说，薄膜主要的承载方式为平面式承载，即在0张力情况下薄膜依附于平面板上，放置于加热真空腔室内。这种方式的缺点，薄膜宽度不能大于500mm，因为宽度过大，会造成四周与中心受热不均匀，影响结晶效果。

发明内容

本发明的目的是为了能够有效解决薄膜宽度的限制，制备大尺寸ITO结晶膜，特提供了一种卷绕式ITO结晶设备。

本发明提供了一种卷绕式ITO结晶设备，其特征在于：所述的卷绕式ITO结晶设备，包括放膜辊1，第一组夹紧辊2，高温辊4，第二组夹紧辊5，收膜辊6，第一速度检测传感器7，薄膜8，第二速度检测传感器9；

其中：放膜辊1与第一组夹紧辊2平行布置在框架上，第一组夹紧辊2和高温辊4平行布置在框架上；

高温辊4和第二组夹紧辊5平行布置在框架上，第二组夹紧辊5和收膜辊6平行布置在框架上；

第一速度检测传感器7布置在第二组夹紧辊5的下后方；第二速度检测传感器9布置在第一组夹紧辊2的下前方；

薄膜8绕在放膜辊1上，顺次通过第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5和收膜辊6上。

所述的卷绕式ITO结晶设备，还包括一个能抽真空环境的封闭箱体3；

放膜辊1、第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5、收膜辊6、第一速度检测传感器7、薄膜8和第二速度检测传感器9均布置在能抽真空环境的封闭箱体3内。

所述的卷绕式ITO结晶设备，还包括控制单元，控制单元为PC。

所述的卷绕式ITO结晶设备，还包括电机驱动装置，电机驱动装置分别连接放膜辊1、高温辊4和收膜辊6。

工作原理：

通过放膜辊的薄膜，经过第一组夹紧辊，使其自然下垂，通过重力自然吸附在高温辊上，薄膜贴合着高温辊来进行运动，来实现ITO的结晶。

当机构运转时，放膜辊、加热辊和收膜辊同方向旋转；加热辊的镀膜速度由人工调节；放膜辊的速度由第二速度检测传感器进行反馈，反馈给PC，由PC进行调速。如果放膜辊部分膜下垂量不足，则放膜辊加速，相反则减速。收膜辊的收膜速度由第一速度检测传感器进行调节，如果收卷部分膜下垂量不足，则收膜辊减速，反之则加速。

本发明的优点：

本发明所述的卷绕式ITO结晶设备，加热辊能与零张力的薄膜完整贴合，且能保证每一点都能受热均匀，可以有效解决薄膜宽度的限制，可制备大尺寸ITO结晶膜。

附图说明

下面结合附图及实施方式对本发明作进一步详细的说明：

图1为卷绕式ITO结晶设备结构示意图。

具体实施方式

实施例1

本实施例提供了一种卷绕式ITO结晶设备，其特征在于：所述的卷绕式ITO结晶设备，包括放膜辊1，第一组夹紧辊2，高温辊4，第二组夹紧辊5，收膜辊6，第一速度检测传感器7，薄膜8，第二速度检测传感器9；

其中：放膜辊1与第一组夹紧辊2平行布置在框架上，第一组夹紧辊2和高温辊4平行布置在框架上；

高温辊4和第二组夹紧辊5平行布置在框架上，第二组夹紧辊5和收膜辊6平行布置在框架上；

第一速度检测传感器7布置在第二组夹紧辊5的下后方；第二速度检测传感器9布置在第一组夹紧辊2的下前方；

薄膜8绕在放膜辊1上，顺次通过第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5和收膜辊6上。

所述的卷绕式ITO结晶设备，还包括一个能抽真空环境的封闭箱体3；

放膜辊1、第一组夹紧辊2、高温辊4、第二组夹紧辊5、收膜辊6、第一速度检测传感器7、薄膜8和第二速度检测传感器9均布置在能抽真空环境的封闭箱体3内。

所述的卷绕式ITO结晶设备，还包括控制单元，控制单元为PC。

所述的卷绕式ITO结晶设备，还包括电机驱动装置，电机驱动装置分别连接放膜辊1、高温辊4和收膜辊6。

工作原理：

通过放膜辊的薄膜，经过第一组夹紧辊，使其自然下垂，通过重力自然吸附在高温辊上，薄膜贴合着高温辊来进行运动，来实现ITO的结晶。

当机构运转时，放膜辊、加热辊和收膜辊同方向旋转；加热辊的镀膜速度由人工调节；放膜辊的速度由第二速度检测传感器进行反馈，反馈给PC，由PC进行调速。如果放膜辊部分膜下垂量不足，则放膜辊加速，相反则减速。收膜辊的收膜速度由第一速度检测传感器进行调节，如果收卷部分膜下垂量不足，则收膜辊减速，反之则加速。