[发明专利]凹槽底部抛光装置及方法有效

专利信息
申请号: 201410370595.X 申请日: 2014-07-30
公开(公告)号: CN105437095B 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;钟伟攀 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: B24D15/02 分类号: B24D15/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 高静,骆苏华
地址: 315400 浙江省宁波*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 凹槽 底部 抛光 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种凹槽底部抛光装置,用于对凹槽底部进行抛光处理,其特征在于,包括:

清洁头部,用于在抛光处理过程中置于所述凹槽内,所述清洁头部采用弹性材料制成;

装在所述清洁头部上的抛光片,所述抛光片的宽度小于或等于所述凹槽的宽度,用于对凹槽底部进行抛光。

2.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置,其特征在于,所述清洁头部呈柱状结构,所述抛光片贴在所述柱状结构的侧壁。

3.如权利要求2所述的凹槽底部抛光装置,其特征在于,所述清洁头部为圆柱状或是立方柱状。

4.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置,其特征在于,所述清洁头部的材料为棉花或是橡胶。

5.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置,其特征在于,所述清洁头部的尺寸大于或等于所述凹槽尺寸,且能够嵌于所述凹槽内。

6.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置,其特征在于,所述抛光片为砂纸。

7.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置,其特征在于,所述凹槽为圆环形凹槽。

8.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置,其特征在于,所述抛光片为平整的平面;

或是沿着凹槽的宽度方向,所述抛光片与凹槽底部的接触面呈中间凸起的环形结构。

9.一种凹槽底部抛光的方法,其特征在于,包括:

提供如权利要求1~8任一项权利要求所述的凹槽底部抛光装置;

将所述清洁头部嵌于所述凹槽内,且将使得所述抛光片表面与凹槽底部贴合的同时不与所述凹槽侧壁接触;

沿着所述凹槽延伸方向移动所述清洁头部,使得所述抛光片与凹槽底部产生摩擦,以对所述凹槽底部进行抛光。

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