[发明专利]一种显示装置、阵列基板及其制作方法在审
| 申请号： | 201410379963.7 | 申请日： | 2014-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN104181741A | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 陈小川;薛海林;车春城;薛艳娜;李伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 显示装置 阵列 及其 制作方法 | ||
1.一种阵列基板，包括设置在衬底基板上的感光树脂层，其特征在于，所述感光树脂层上具有多个突起，在所述突起表面还具有漫反射层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述漫反射层由反光金属制成。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括源漏金属层和第一电极层，所述感光树脂层位于所述源漏金属层和第一电极层之间。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，在所述第一电极层上方还包括绝缘层和第二电极层，所述第二电极层为狭缝状。
5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述反光金属为铝。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述突起呈波浪形均匀地设置在所述感光树脂层上。
7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的阵列基板。
8.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤S1、形成感光树脂层，在所述感光树脂层上形成多个突起；
步骤S2、在所述突起上形成漫反射层。
9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S1具体包括：
步骤S11、在基板上沉积感光树脂材料；
步骤S12、采用具有多个镂空图案的掩膜板对步骤S11中的基板进行曝光，最终使得在所述感光树脂层上形成多个突起结构。
10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述镂空图案的尺寸小于曝光机的极限分辨率。
11.如权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述镂空图案的直径为2um，相邻两个镂空图案之间的间距为1um。
12.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S2具体包括：在突起结构上沉积反光金属层形成所述漫反射层。
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