[发明专利]一种显示装置、阵列基板及其制作方法在审
申请号: | 201410379963.7 | 申请日: | 2014-08-04 |
公开(公告)号: | CN104181741A | 公开(公告)日: | 2014-12-03 |
发明(设计)人: | 陈小川;薛海林;车春城;薛艳娜;李伟 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 阵列 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示装置、阵列基板及其制作方法。
背景技术
随着TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)技术的不断发展,在产品工艺生产中,对其品质的管控提出了更高的要求。
近年来,半反半透屏产品越来越受到消费者的追捧,其主要特点是能够不受来外光源的影响,在强光环境下也能满足画面的正常显示,清晰地表达所需要的画面,从而实现在户外使用的目的,同时在户外使用时还可以降低背光亮度实现节省功耗的目的。
在半反半透屏产品设计中,需要将反射部分制作成凹凸不平的表面,以实现高的漫反射,以防止对外界光产生镜面反射。
现有技术中,半反半透屏的反射部分采用在阵列基板侧通过栅线、源漏电极、有源层等膜层进行叠加,形成不同高度的表面,最后在表面设置一层反射率比较高的Al膜层,这样可以在Al膜层的表面形成凹凸不平,以实现漫反射的目的。
但在实际生产中发现,采用膜层叠加的方式容易受到曝光机精度以及刻蚀精度的限制,要求每个膜层突起之间的距离至少要达到10um左右才可以实现,同时还需要保证不同层之间的位置精度,在目前工艺下,实现的漫反射效果较差。
发明内容
(一)所要解决的技术问题
本发明的目的在于提供一种显示装置、阵列基板及其制作方法,以解决现有的半反半透产品的漫反射效果较差、设计复杂、成本较高等缺陷。
(二)技术方案
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:本发明提供一种阵列基板,包括:设置在衬底基板上的感光树脂层,所述感光树脂层上具有多个突起,在所述突起表面还具有漫反射层。
优选地,所述漫反射层由反光金属制成。
优选地,所述阵列基板还包括源漏金属层和第一电极层,所述感光树脂层位于所述源漏金属层和第一电极层之间。
优选地,在所述第一电极层上方还包括绝缘层和第二电极层,所述第二电极层为狭缝状。
优选地,所述反光金属为铝。
优选地,所述突起呈波浪形均匀地设置在所述感光树脂层上。
另一方面,本发明还提供一种显示装置,包括上述的阵列基板。
再一方面,本发明提供一种阵列基板的制作方法,包括:
步骤S1、形成感光树脂层,在所述感光树脂层上形成多个突起;
步骤S2、在所述突起上形成漫反射层。
优选地,所述步骤S1具体包括:
步骤S11、在基板上沉积感光树脂材料;
步骤S12、采用具有多个镂空图案的掩膜板对步骤S11中的基板进行曝光,最终使得在所述感光树脂层上形成多个突起结构。
优选地,所述镂空图案的尺寸小于曝光机的极限分辨率。
优选地,所述镂空图案的直径为2um,相邻两个镂空图案之间的间距为1um。
优选地,所述步骤S2具体包括:在突起结构上沉积反光金属层形成所述漫反射层。
(三)有益效果
本发明提供的显示装置、阵列基板及其制作方法,通过将感光树脂层设置多个突起,结合漫反射层可形成良好的漫反射效果,提高半反半透屏的显示品质。
附图说明
图1为本发明实施例中阵列基板结构示意图;
图2为本发明实施例中阵列基板的制作方法流程图;
图3为本发明实施例中具有镂空图案的掩膜板结构示意图;
图4为本发明实施例中阵列基板的制作步骤示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不是用来限制本发明的范围。
如图1所示,本发明实施例提供一种阵列基板,包括:设置在衬底基板上的感光树脂层1,所述感光树脂层上具有多个突起11,在所述突起表面还具有漫反射层2。其中,较优的,该漫反射层2由反光金属制成。
本实施例中,为了实现较好的光漫反射以及有效地控制成本,优选采用金属Al制作,当然,除了采用金属Al之外,还可以采用其他反光金属来制作漫反射层2。
优选地,该突起11呈波浪形均匀地分布在感光树脂层1上。在实际产生中,采用带有多个镂空图案的掩膜板对感光树脂进行曝光,在曝光过程中发生衍射曝光,在感光树脂层表面,形成透光量递变的波浪形突起。
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