[发明专利]显影方法和显影装置

权利要求书

1.一种显影方法，其特征在于，包括：

将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；

从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；

使基板旋转的步骤；

使所述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的所述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和

与使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与所述显影液喷嘴一起移动且与所述基板相对的相对面比所述基板的表面小的接触部的该相对面与所述积液接触的步骤，

使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤包括：

第一步骤，向所述积液供给显影液，并且从所述基板的上方侧施加使所述积液绕与基板正交的轴进行旋转的作用，从而在该积液中的所述相对面的下方区域产生旋流；和

第二步骤，与所述显影液喷嘴的移动并行进行，以所述相对面不超过在以100rpm以下的转速旋转的基板上扩展的所述积液的端部地追随所述积液的端部，直到所述基板的整个表面被积液覆盖为止的方式，使所述相对面从旋转的所述基板的中心部和周缘部中一者向另一者沿该基板的径向呈直线状地移动，使所述相对面的下方区域的所述旋流的产生位置沿着该基板的表面移动。

2.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于：

使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤包括：将多个所述接触部分别配置在所述积液的相互不同的位置，对各接触部的所述相对面的下方区域施加使积液绕与所述基板正交的轴进行旋转的作用，从而产生旋流的步骤。

3.如权利要求2所述的显影方法，其特征在于：

所述形成积液的步骤是在包括基板的中心部的区域形成积液的步骤，

使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤包括：

使显影液的喷出位置从基板的中心部侧向周缘部侧移动的步骤；和

在所述积液的相互不同的位置产生旋流，并且分别使从基板的中心部向周缘部侧产生所述旋流的位置移动的步骤。

4.如权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

包括使施加使积液进行旋转的作用的位置在基板的中心部侧和周缘部侧之间往复的步骤。

5.如权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述旋流的旋转方向与基板的旋转方向相反。

6.如权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述形成积液的步骤是在包括基板中心部的区域形成积液的步骤，

使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤包括使所述积液扩展到基板的周缘部的步骤。

7.如权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

包括对基板中心部局部供给用于稀释显影液的稀释液的稀释液供给步骤，

所述形成积液的步骤在所述稀释液供给步骤后进行。

8.如权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述显影液喷嘴由各自具有所述接触部的第1显影液喷嘴和第2显影液喷嘴构成，

使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤包括：使第1显影液喷嘴和第2显影液喷嘴移动，以使第2显影液喷嘴的接触部通过在基板上第1显影液喷嘴的接触部所通过的区域的步骤。

9.如权利要求8所述的显影方法，其特征在于：

使第1显影液喷嘴和第2显影液喷嘴移动的步骤包括：使所述第1显影液喷嘴和所述第2显影液喷嘴在旋转的所述基板上向彼此不同的方向移动的步骤。

10.如权利要求1至3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

使所述积液扩展到基板的整个表面的步骤包括：在所述显影液喷嘴内形成螺旋状的显影液的液流，并喷出该液流的步骤。

11.如权利要求10所述的显影方法，其特征在于：

使所述螺旋状的显影液的液流在显影液喷嘴的喷出口的周向上旋转。