[发明专利]曝光设备的光源模块

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于曝光设备中的光源模块。

背景技术

在制造电路板的制程中，需采用光学微影蚀刻的步骤在电路板基板上形成电路图案(pattern)，该光学微影蚀刻是在将电路板基板上涂布光阻层，并利用曝光设备曝光，再借由显影、蚀刻的过程使电路图案形成在该电路板基板上。其中，该曝光设备将光投射至曝光平面上而形成曝光区域，涂布有光阻层并设置有光罩的电路板基板对位放置于该曝光区域内，借由激发光让光阻感光来发生化学反应，使得被曝光的光阻与被光罩遮避的光阻对显影液具有不同的溶解度。该曝光区域内有曝光均匀度的要求，即在该曝光区域的范围内任一点接收到的能量必须在一特定范围内，才能使该电路板基板上被曝光部分的光阻的溶解度一致。

现有曝光设备的光源模块在多个LED前方各自对应设置一透镜，每一LED发出的光线经过该透镜折射后形成锥状光束投射至曝光平面上，每一LED投射到该曝光平面的光强度会由中心朝边缘递减，即在邻近中心位置所接收到的光强度较强，而远离中心位置接收到的光强度较弱。因此，为了达成曝光区域内的曝光均匀度的要求，必须依据投射到该曝光平面上的相邻光束重叠的区域的光强度与投射到该曝光平面上的每一光束中心位置的光强度，来精密地调整这些LED之间的相对位置，以使所有LED共同投射到该曝光平面上所形成的曝光区域内的光强度均匀。这样，导致了现有曝光设备的光源结构复杂，导致装设、维护与校正困难及成本高昂等缺点。

发明内容

为解决上述现有技术的缺陷，本发明的主要目的在于提供一种曝光设备的光源模块，其可使射出的光线为平行光。

为达上述目的及其他目的，本发明提供一种曝光设备的光源模块，包含基座、第一透镜、光源单元、第二透镜及第一调整件或第二调整件，该基座具有容置槽；该第一透镜设置于该基座的容置槽的开口上；该光源单元设置于该容置槽的底面，该光源单元具有电路板及设置于该电路板上的LED；该第二透镜设置于该LED上，该第二透镜的面积小于该第一透镜；该第一调整件连接该第一透镜与该基座，用于调整该第一透镜与该第二透镜间的距离，该第二调整件连接该第二透镜与该基座，用于调整该第一透镜与该第二透镜间的距离；其中，该光源单元的LED发出的光线经由第二透镜折射后再被该第一透镜折射而呈平行光射出。

上述的曝光设备的光源模块，其中该第一透镜朝向该第二透镜的第一表面为平面，该第二透镜朝向该LED的第二表面为平面。

上述的曝光设备的光源模块，其中该第一调整件为垫片，该第二调整件为垫片。

上述的曝光设备的光源模块，其中该LED为紫外光LED(UV-LED)。

上述的曝光设备的光源模块，其中该LED发出的光线的波长为365nm。

上述的曝光设备的光源模块，其中该光源单元具有设置于该电路板上的温度传感器。

上述的曝光设备的光源模块，其中进一步包含一散热件，其连接该电路板。

据此，本发明实施例的光源模块可使该LED的光线呈平行光射出，而可使曝光平面上的曝光区域接收到均匀分布的光强度。

附图说明

图1为本发明实施例的曝光设备的光源模块的剖面示意图。

图2为本发明实施例的曝光设备的光源模块的立体示意图。

主要部件附图标记：

1光源模块

10基座

11容置槽

20第一透镜

21第一表面

30光源单元

31电路板

32LED

33温度传感器

40第二透镜

41第二表面

50第一调整件

60第二调整件

70散热件

具体实施方式

为充分了解本发明的目的、特征及技术效果，兹由下述具体实施例，并结合附图，对本发明做详细说明，说明如下：