[发明专利]一种纳米MoS2改性PVDF超滤膜的制备方法

权利要求书

1.一种纳米MoS₂改性PVDF超滤膜的制备方法，其特征在于一种纳米MoS₂改性PVDF超滤膜的制备方法具体是按以下步骤完成的：

一、制备铸膜液：首先按重量份数称取15份～25份PVDF、0.5份～2份致孔剂、60份～90份纳米MoS₂悬浮液和1份～25份分散溶剂；然后将称取的15份～25份PVDF、0.5份～2份致孔剂、60份～90份纳米MoS₂悬浮液和1份～25份分散溶剂在温度为40℃～60℃和搅拌速度为400r/min～600r/min的条件下搅拌6h～12h，再放入温度为25℃～50℃的真空干燥箱中静置脱泡4h～6h，得到铸膜液；

二、浇铸、成膜：在温度为15℃～25℃和湿度为60％～80％的条件下将铸膜液浇铸在洁净的玻璃基板上，浇铸过程中使用刮膜机在浇铸后的玻璃基板上进行刮膜，得到含有厚度为0.1mm～0.3mm的铸膜液的玻璃基板；将含有厚度为0.1mm～0.3mm的铸膜液的玻璃基板在空气中挥发10s～30s，再浸入到凝固浴中浸泡12h～24h，得到脱落后的超滤膜；

三、清洗：使用蒸馏水对脱落后的超滤膜进行清洗2次～4次，保存在蒸馏水中，得到纳米MoS₂改性PVDF超滤膜；

步骤一所述的纳米MoS₂悬浮液的制备方法是按以下步骤完成的：

①、将天然六方晶型的MoS₂粉末与分散溶剂混合，得到MoS₂的初始混合液；

步骤①中所述的分散溶剂为N，N-二甲基甲酰胺、1-甲基-2-吡咯烷酮、1-乙烯基-2-吡咯烷酮或N，N-二甲基乙酰胺；

步骤①中所述的MoS₂粉末的质量与分散溶剂的体积比为(10mg～30mg):1mL；

②、以400r/min～600r/min的搅拌速度将MoS₂的初始混合液在60℃～80℃下搅拌12h～24h，得到搅拌后的MoS₂的混合液；

③、对搅拌后的MoS₂的混合液进行超声处理，超声功率300W～500W，超声时间为3h～6h，得到超声处理后的MoS₂混合液；

④、将超声处理后的MoS₂混合液静置12h～24h，然后取上层清液，得到纳米MoS₂悬浮液。

2.根据权利要求1所述的一种纳米MoS₂改性PVDF超滤膜的制备方法，其特征在于步骤一中所述的分散溶剂为N，N-二甲基甲酰胺、1-甲基-2-吡咯烷酮、1-乙烯基-2-吡咯烷酮或N，N-二甲基乙酰胺。

3.根据权利要求1所述的一种纳米MoS₂改性PVDF超滤膜的制备方法，其特征在于所述的致孔剂为聚乙烯吡络烷酮、聚乙二醇、尿素或木粉。

4.根据权利要求1所述的一种纳米MoS₂改性PVDF超滤膜的制备方法，其特征在于步骤二所述的凝固浴为蒸馏水、乙醇和丙酮中的一种或几种的混合液。

5.根据权利要求1所述的一种纳米MoS₂改性PVDF超滤膜的制备方法，其特征在于步骤一中首先按重量份数称取15份～20份PVDF、0.5份～1份致孔剂、65份～90份纳米MoS₂悬浮液和2份～20份分散溶剂；然后将称取的15份～20份PVDF、0.5份～1份致孔剂、65份～90份纳米MoS₂悬浮液和2份～20份分散溶剂在温度为50℃～60℃和搅拌速度为500r/min～600r/min的条件下搅拌10h～12h，再放入温度为25℃～30℃的真空干燥箱中静置脱泡4h～5h，得到铸膜液。

6.根据权利要求1所述的一种纳米MoS₂改性PVDF超滤膜的制备方法，其特征在于步骤一中首先按重量份数称取16份PVDF、0.5份致孔剂、65份纳米MoS₂悬浮液和20份分散溶剂；然后将称取的16份PVDF、0.5份致孔剂、65份纳米MoS₂悬浮液和20份分散溶剂在温度为60℃和搅拌速度为500r/min的条件下搅拌12h，再放入温度为25℃的真空干燥箱中静置脱泡4h，得到铸膜液。