[发明专利]抛光头

说明书

技术领域

本发明涉及化学机械抛光技术领域，尤其是一种抛光头。 

背景技术

在对半导体晶圆等精密器件进行抛光加工时，化学机械抛光是一种最常用的加工方法。中国发明专利CN 101342681B公开了一种抛光头，提高了抛光的均匀性。但是，这种结构对与抛光时产生的振动仅仅可以通过气囊和水囊对中段频幅的振动进行过滤缓冲，而对高频和低频的振动的过滤缓冲效果不佳。 

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种抛光头，能够改进现有技术的不足，进一步提高抛光头旋转时的稳定性。 

为解决上述技术问题，本发明所采取的技术方案如下。 

抛光头，包括上盖盘、中盖盘和下盖盘，上盖盘连接有旋转轴，下盖盘连接有夹持器，所述上盖盘和中盖盘之间均匀设置有若干个连杆，连杆的上端铰接于上盖盘的中心，连杆的下端铰接于中盖盘的边缘，连杆的上端与上盖盘之间设置有橡胶缓冲垫，中盖盘的边缘设置有圆形夹片，连杆的下端铰接于圆形夹片内；所述中盖盘和下盖盘之间设置有液压缓冲层，液压缓冲层的外侧设置有硅胶外壁，液压缓冲层内同心设置有第一缓冲环，第一缓冲环内设置有叠片层。 

作为优选，所述旋转轴两侧对称设置有两个弧形空心管，弧形空心管内设置有重球，重球与弧形空心管过盈配合。 

作为优选，所述弧形空心管为椭圆弧，单个重球的重量占抛光头总重量的20%～25%，弧形空心管在上盖盘投影的长度为上盖盘半径的1.2倍～1.5倍。 

作为优选，所述下盖盘内环形设置有若干个通气孔，通气孔包括与下盖盘底面相通的毛细管，毛细管的进口处设置有斜面，毛细管上方设置有敞口管，敞口管的敞口端与下盖盘的侧壁相通。 

作为优选，所述液压缓冲层设置有第二缓冲环，第二缓冲环与第一缓冲环相通，第二缓冲环内设置有网格层。 

作为优选，所述第一缓冲环和第二缓冲环之间设置有球形缓冲带。 

作为优选，所述圆形夹片内侧设置有支杆，连杆通过扭簧铰接在支杆上，圆形夹片内侧设置有波浪状的橡胶起伏层，连杆与橡胶起伏层过盈配合。 

作为优选，所述夹持器包括保持环，保持环内侧设置有台阶，台阶顶部设置有气囊环，台阶的中心设置有负压吸盘，负压吸盘内设置有若干个硬质支持环。 

采用上述技术方案所带来的有益效果在于：本发明在现有技术的基础上，增加连杆结构对大振幅低频率的振动进行过滤缓冲，增加液压缓冲层对小振幅高频率的振动进行过滤缓冲。通过两个结构的共同配合作用，是本发明对各种频率和振幅的振动都可以进行充分的过滤和缓冲，进一步提高了抛光头工作过程中的平稳性。重球在抛光头旋转过程中依靠离心力的作用在弧形空心管内移动，重球对旋转轴施加水平方向的平衡离心力，减小了旋转轴在旋转过程中水平方向的相对位移。通气孔在旋转过程中产生向上流动的气流，使整个抛光头受到向上的提升力，减小了旋转轴在旋转过程中竖直方向的相对位移。夹持器通过负压吸盘对加工物料进行夹持，与此同时台阶和硬质支持环对加工物料进行全方位支持，提高了物料抛光过程中对物料夹持的稳定性。 

附图说明

图1是本发明一个具体实施方式的示意图。 

图2是本发明一个具体实施方式中圆形夹片内部的示意图。 

图3是本发明一个具体实施方式中通气孔的示意图。 

图4是本发明一个具体实施方式中夹持器的俯视图。 

图中：1、上盖盘；2、中盖盘；3、下盖盘、4、旋转轴、5、夹持器；6、连杆；7、橡胶缓冲垫；8、圆形夹片；9、液压缓冲层；10、硅胶外壁；11、第一缓冲环；12、叠片层；13、弧形空心管；14、重球；15、通气孔；16、毛细管；17、斜面；18、敞口管；19、第二缓冲环；20、网格层；21、球形缓冲带；22、支杆；23、扭簧；24、橡胶起伏层；25、保持环；26、台阶；27、负压吸盘；28、硬质支持环。 

具体实施方式

参照图1-4，本具体实施方式包括上盖盘1、中盖盘2和下盖盘3，上盖盘1连接有旋转轴4，下盖盘3连接有夹持器5，所述上盖盘1和中盖盘2之间均匀设置有若干个连杆6，连杆6的上端铰接于上盖盘1的中心，连杆6的下端铰接于中盖盘2的边缘，连杆6的上端与上盖盘1之间设置有橡胶缓冲垫7，中盖盘2的边缘设置有圆形夹片8，连杆6的下端铰接于圆形夹片8内；所述中盖盘2和下盖盘3之间设置有液压缓冲层9，液压缓冲层9的外侧设置有硅胶外壁10，液压缓冲层9内同心设置有第一缓冲环11，第一缓冲环11内设置有叠片层12。