[发明专利]ITO导电玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于中大尺寸电容式触摸屏的无色低阻消影的ITO导电玻璃及其制备方法。

背景技术

ITO导电玻璃是在钠钙基片或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法依次沉积二氧化硅(SiO₂)和氧化铟锡(通称ITO)薄膜加工制作成的。

ITO是一种具有良好透明导电性能的金属化合物，具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低等特性，ITO导电玻璃广泛地应用于平板显示器件、太阳能电池、特殊功能窗口涂层及其他光电器件领域，是目前LCD、PDP、OLED、触摸屏等各类平板显示器件广泛采用的透明导电电极材料。作为平板显示器件的关键基础材料，ITO导电玻璃其随着平板显示器件的不断更新和升级而具有更加广阔的市场空间。

传统的应用于电容式触摸屏的消影玻璃一般通过在玻璃和ITO之间溅镀高折射率、低折射率两层结构的消影膜层，使得ITO线条与刻蚀区之间的色差和透过率之差减小，达到消影的目的。这种消影玻璃电阻比较高，较适用于中小尺寸电容式触摸屏。对于中大尺寸电容屏，因触控精度要求，需要电阻更低、膜层更厚的ITO膜层。此时，高折射率、低折射率匹配做为消影层结构时，要实现较为理想的消影效果，因ITO膜层太厚，ITO颜色会比较重，从而ITO线和蚀刻区域无法达到颜色上的尽可能相同，即虽能实现透过率上相差较近，但颜色差异的存在影响消影效果，导致消影效果仍然较差。因此，大尺寸的电容式触摸屏往往需要较低面电阻的颜色尽可能无色的低阻消影ITO导电玻璃。

同时，常规消影ITO产品所需高折射率材料多采用Nb₂O₅，ITO后续加工工序中会有碱液脱膜、加碱超声清洗等工序，而Nb₂O₅会同碱液反应而溶解，ITO的附着力、致密性将受到影响，严重的会出现ITO膜层脱落，影响产品的触控功能。而若采用TiO₂、ZrO₂或Si₃N₄等材料做为高折射率材料，则无论碱液脱膜、还是加碱超声，消影层都不会同碱液反应，ITO膜层的附着力、致密性更有保证，从而用此类材料生产的ITO玻璃制备的电容屏产品的触控功更有保证。

发明内容

基于此，有必要提供一种在面电阻较低时颜色尽可能无色且能够实现消影目的的ITO导电玻璃及其制备方法。

一种ITO导电玻璃，包括依次层叠的玻璃、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层以及ITO层；

所述第一高折射率层的材料为TiO₂、ZrO₂或Si₃N₄；

所述第一低折射率层的材料为SiO₂或MgF₂；

所述第二高折射率层的材料为TiO₂、ZrO₂或Si₃N₄；

所述第二低折射率层的材料为SiO₂或MgF₂；

所述第一高折射率层的厚度为

所述第一低折射率层的厚度为

所述第二高折射率层的厚度为

所述第二低折射率层的厚度为

在一个实施例中，所述第一高折射率层的厚度为

在一个实施例中，所述第一低折射率层的厚度为

在一个实施例中，所述第二高折射率层的厚度为

在一个实施例中，所述第二低折射率层的厚度为

在一个实施例中，所述ITO层的厚度为

在一个实施例中，所述ITO导电玻璃的面电阻为10欧姆～14欧姆、14欧姆～20欧姆、17～25欧或20欧姆～30欧姆。

一种ITO导电玻璃的制备方法，包括如下步骤：

提供玻璃，清洗后干燥；